판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC CL200 #293793211

ID: 293793211
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2010
Megasonic cleaner, 6" Vacuum chuck Substrate size: 4"x4", 5"x5" Maximum spin speed: 4000 RPM Maximum field of view: Ø75 mm 2010 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC CL 200은 반도체 제작에서 고정밀도 및 고출력 사진 석판 처리를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 집적 회로 및 마이크로 일렉트로닉 장치 제조에 중요한 도구이며, 서브 미크론 해상도 (sub-micron resolution) 를 가진 기판에서 피쳐를 패턴화하는 기능을 제공합니다. MICROTEC CL 200 장치는 고급 기술과 사용자 친화적 인 기능을 결합하여 최신 반도체 제조의 까다로운 요구 사항을 충족시킵니다. KARL SUSS CL 200 기계의 중심부에는 정밀 정렬 기 (precision aligner) 가 있으며, 포토 esist로 코팅 된 기판 위에 포토 마스크를 정확하게 배치하는 데 사용됩니다. 정렬기는 고해상도 광학 (optics) 과 정교한 정렬 알고리즘을 사용하여 마스크와 기판 사이의 적절한 오버레이를 보장합니다. 이 정확한 정렬은 필수 해상도와 치수 제어 (dimensional control) 로 패턴을 만드는 데 필수적입니다. CL 200 툴에는 다양한 프로세스 요구 사항을 충족하기 위해 근접, 소프트 컨택트 (soft contact), 하드 컨택트 (hard contact) 모드 등 다양한 노출 모드가 장착되어 있습니다. 각 노출 모드는 해상도 (Resolution), 패턴 충실도 (Pattern Fidelity), 처리량 (Throughput) 측면에서 독보적인 이점을 제공하므로 프로세스 엔지니어가 다른 응용 프로그램에 대해 사진 분석 프로세스를 최적화할 수 있습니다. KARL SUSS/MICROTEC CL 200 자산의 주요 기능 중 하나는 고급 자동화 기능입니다. 이 모델에는 높은 정밀도, 반복성으로 기판을 로드하고 언로드 할 수있는 로봇 기판 핸들러 (robotic substrate handler) 가 장착되어 있습니다. 이 자동화는 장비 처리량 (throughput) 을 높일 뿐만 아니라, 처리 관련 결함의 위험도 줄여 제조 공정의 전체 수익률을 향상시킵니다. MICROTEC CL 200 시스템에는 프로세스 제어 및 모니터링을위한 고급 소프트웨어 도구도 포함되어 있습니다. 프로세스 엔지니어는 온도, 습도, 노출 용량, 정렬 정확도와 같은 중요한 매개변수를 실시간으로 모니터링할 수 있으며, 이를 통해 프로세스 성능을 최적화할 수 있습니다. 이 장치의 소프트웨어는 레시피 관리 (recipe management) 를 지원하므로 엔지니어가 다양한 사진 해설법 단계에 대한 프로세스 매개변수를 저장하고 리콜할 수 있으며, 프로세스 반복성과 효율성을 더욱 높일 수 있습니다. 고급 기술 기능 외에도 KARL SUSS CL 200 머신은 사용자 친화적 인 기능으로 설계되어 쉽게 작동하고 유지 관리합니다. 이 도구의 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 를 통해 포토리스토그래피 (Photolithography) 프로세스를 명확하게 시각화하여 운영자가 제조 단계의 진행 상황을 모니터링하고 발생할 수 있는 문제를 해결할 수 있습니다. 이 자산에는 사전 예방 유지 관리 (Proactive Maintenance) 를 위한 진단 툴이 내장되어 있어 다운타임을 최소화하고 일관된 성능을 보장합니다. 전반적으로 CL 200 photoresist 모델은 반도체 제조에서 고성능 photolithography 프로세스를 위해 다양하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 고급 기술, 자동화 기능 및 사용자 친화적 인 기능을 갖춘 KARL SUSS/MICROTEC CL 200 장비는 반도체 제조업체에 높은 수율과 품질의 복잡한 마이크로 전자 장치를 제작하는 데 필요한 정밀도 및 제어 기능을 제공합니다.
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