판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC AS 8 #293800216

KARL SUSS/MICROTEC AS 8은 사용자에게 다양한 장치 및 설정을 빠르게 프로토 타입하는 기능을 제공하는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 자외선을 이용하는 포토리토그래피 (photolithography) 를 사용하여 다양한 레이어의 마스크 및 재료가있는 회로 기판을 각인합니다. MICROTEC AS 8은 광범위한 제어, 정밀한 정렬 및 정확성, 다중 계층 (multilayer) 제품을 생산하는 기능 등 다양한 이점을 제공합니다. KARL SUSS AS8은 구성 요소 및 구조를 정확하게 정렬하기 위해 고급 OVP (광학 수직 프로파일러) 를 사용합니다. 장치와 호환되는 UV 전원 (power) 은 최적화된 램프 배열에서 비롯된 것으로, 원하는 응용 프로그램에 맞게 조정할 수 있습니다. 정밀한 Z축 동작은 해상도 10nm의 선형 변환 단계에 의해 활성화됩니다. 이것 은 "패턴 '의 반복성 과 정확성 에 최적화 된 인쇄물 을 극히 정확 하게 에칭 하는 데 기여 한다. KARL SUSS AS 8은 맞춤형 정밀 마스크 정렬 머신을 특징으로하며, 이는 접촉 및 비접촉 정렬 전략을 모두 제공합니다. 이 도구에서 제공하는 기능 중에는 1 차원 등록을 빠르고 정확하게 수행하기 위해 사용할 수있는 Ultra Precision Alignment vision 에셋이 있습니다. 또한 KARL SUSS/MICROTEC AS8은 사이클 당 최대 8 개의 웨이퍼를 로드, 정렬 및 노출 할 수있는 자동 웨이퍼 처리 모델을 제공합니다. MICROTEC AS8은 다양한 마스크 제작 옵션도 제공합니다. 열 저항뿐만 아니라 긍정적, 부정적인 저항도 지원합니다. 또한 다중 계층 디바이스를 생산할 수 있으며, 최대 10 개의 작은 레이어와 8 개의 최대 높이 (높이) 를 달성 할 수 있습니다. 또한, 장비를 사용하여 다중 패턴 (multiple-pattern) 프로세스를 수행할 수 있으므로 다양한 복잡한 회로 기판을 만들 수 있습니다. 고정밀 에칭과 관련하여 AS 8은 특허를받은 균일 노출 (uniformed exposure) 과 스냅 오프 (snap-off) 기술을 사용하여 '부드러운' 수확량과 부드러운 가장자리를 위해 설계되었습니다. 이를 통해 사용자는 패턴 반복성과 정확성을 높일 수 있습니다. 또한 이것은 결함 수를 줄이는 데 도움이됩니다. 마지막으로 AS8은 차등 임계 치수 (CD) 측정 기능을 제공합니다. 이렇게 하면 제조 프로세스 전반에 걸쳐 모든 컴포넌트와 구조가 정확하게, 그리고 정확하게 배치되도록 할 수 있습니다. 전반적으로 KARL SUSS/MICROTEC AS 8 (AS 8) 은 다양한 유형의 장치와 설정을 신속하게 프로토 타입할 수있는 고도의 포토 esist 시스템입니다. 고급 OVP, 정밀 마스크 정렬 장치 (precision mask alignment unit) 및 자동 웨이퍼 처리 장치 (automated wafer handling machine) 를 사용하여 정확하고 정확한 구성 요소와 구조를 정의할 수 있습니다. 또한, 사용자에게 다중 계층 함수, 다중 패턴 프로세스, 균일 한 노출 및 차등 CD를 제공합니다. 이 모든 기능은 고품질 인쇄 (print) 를 제공할 수 있는 강력한 도구를 만드는 데 도움이 됩니다.