판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 #9355505

KARL SUSS/MICROTEC ACS 200은 반도체 장치의 리소그래피 연구, 개발 및 생산을 위해 설계된 세계적으로 유명한 사진주의 장비입니다. 이 시스템에는 4.0 mm 스트로크 범위의 스테퍼 모터가 있으며, 높은 정확도는 0.5 äm입니다. 또한 2축 전단 (2-Axis Shear) 도구를 장착하여 장치의 제작 시간과 비용을 줄입니다. 이 기계는 웨이퍼 레벨 및 마스크 레벨 프로세스의 생산성을 최대화하도록 설계되었습니다. 또한 다양한 두께와 크기로 다양한 기판을 지원할 수 있습니다. MICROTEC ACS200 (MICROTEC ACS200) 은 사진 프로세스 매개변수를 웨이퍼 또는 마스크 레벨에서 결정하는 수많은 매개변수를 추적하도록 설계되었습니다. 피에 조 (piezo) 자동 초점이 장착 된 웨이퍼 척 (Wafer chuck) 이 장착되어 웨이퍼 반복성을 보장합니다. 이 도구는 여러 노출 소스를 지원할 수도 있습니다. 또한 광도 안정화와 최대 465mm ² 의 활성 이미지 크기의 가변 노출 대역 (Variable Exposure Band) 을 갖춘 노출에 LED 또는 제논 (Xenon) 광원을 사용합니다. 또한, 자동 셔터 (auto shutter) 와 마스크 스테이지가 장착되어 있어 레이아웃 패턴을 기판 또는 마스크 서피스에 정밀하게 정렬할 수 있습니다. KARL SUSS ACS-200에는 사용자에게 친숙한 작동을 제공하는 내장형, 직관적, 높은 처리량 소프트웨어 컨트롤러도 장착되어 있습니다. 컨트롤러는 다중 단계 반복 노출 및 프로세스를 실행할 수 있습니다. 따라서 유연한 제어 및 데이터 분석 기능을 활용할 수 있습니다. 또한, 내장 프로그래밍 가능한 인터페이스를 사용하여 추가 프로세스 요구 사항에 맞게 자산을 쉽게 사용자 정의할 수 있습니다. 이 모델은 또한 최적의 성능을 보장하는 고품질 환경을 제공합니다. 작동 중 이완 및 진동을 줄여 최적의 결과를 얻기 위해 설계되었습니다. 장비는 또한 기기의 수명을 늘리기 위해 포토레스 (photoresist) 침식을 줄이는 데 도움이됩니다. KARL SUSS ACS 200은 사용자에게 완벽한 리소그래피 기능을 제공하도록 설계된 고급 포토리스 시스템입니다. 기판 (substrate) 이나 마스크 (mask surface) 에 레이아웃 패턴을 정확하게 정렬하고 효율적인 데이터 분석 기능을 제공하는 다양한 기능이 장착되어 있습니다. 또한, 직관적인 제어 및 인터페이스 (interface) 를 통해 사용자 지정 요구 사항에 맞게 쉽게 작동 및 사용자 정의할 수 있습니다. 이 장치는 또한 장치 수명 및 제품 수율을 극대화하기 위해 진동 (Vibration) 과 광저항 침식 (photoresist erosion) 을 줄이는 스 너그 (snug) 환경을 제공하도록 설계되었습니다.