판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 #9180365

MICROTEC/Microtron KARL SUSS/MICROTEC ACS 200은 반도체, 광전자 및 관련 응용 분야에 사용하기에 적합한 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 광선 에 민감 한 물질 인 광전자 (photoresist) 를 이용 하여 정밀도 가 높은 복잡 한" 패턴' 을 만든다. 이 장치는 에어 브러쉬 스타일의 노출 헤드 또는 기존의 "포인트 앤 슈트 (point and shoot)" 헤드를 사용합니다. 노출 헤드 (Exposure Head) 는 사용 중인 광물질 (photoresist material) 에 대한 최적의 양의 빛을 전달하기 위해 교정된다. 포토리스 스트 (photoresist) 재료는 웨이퍼에 배치되고, 노출 헤드는 미리 정해진 패턴으로 웨이퍼를 가로 질러 움직인다. 그 결과, 사용자 의 욕망 에 따라 "웨이퍼 '에" 포토레지스트' 무늬 가 만들어진다. 이 기계는 폐쇄 루프 모니터링 도구를 사용하여 포토 esist의 노출 (over-exposure) 또는 노출 (under-exposure) 을 감지합니다. 잘못된 노출이 감지되면, 에셋은 빠른 보정을 통해 포토레지스트 (photoresist) 레이어가 최적으로 노출 될 수 있습니다. 또한, 이 모델을 통해 내부 또는 외부 감광 모니터를 사용하여 광원 플럭스를 모니터링할 수 있습니다. MICROTEC ACS200은 직경이 최대 200mm 인 웨이퍼와 최대 8 "제곱의 기질을 처리 할 수 있습니다. 그것 은 "포토레지스트 '물질 의 여러 층 을 분배 하는 능력 을 가지고 있는데, 이것 은 정확 하고 정확 한 결과 를 얻는 데 도움 이 된다. 또한 부드럽고 진동이없는 노출 프로세스를 제공하는 자동 (automotion) 경험이 특징입니다. 장비는 사용하기 쉽고 설정 시간이 최소화됩니다. 그것은 매우 신뢰할 수 있으며 반복 노출에도 일관된 결과를 제공합니다. 또한, 시스템은 다중 포토레지스트 (photoresist) 재료를 수용하여 재료 선택과 관련하여 유연성을 허용합니다. 마지막으로, KARL SUSS ACS-200 은 완전히 자동화되었으며, 포괄적인 문제 해결 가이드와 원격 진단 (remote diagnostics) 지원이 제공되어 유지 관리 및 문제 해결이 용이합니다.