판매용 중고 KARL SUSS / MICROTEC ACS 200 Gen3 #293771037

KARL SUSS/MICROTEC ACS 200 Gen3은 프로세스 최적화와 더 큰 유연성을 위해 고급 자동 리소그래피 기능을 갖춘 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 반도체 장치 제조 를 위한 광물질 의 자동적 이고 정밀 한 정렬 및 노출 을 가능 하게 한다. 이 장치는 8축 정밀도로 매우 정확한 광학 개발 및 정렬 기능을 제공하도록 설계되었습니다. 자동화된 제어 (automated control) 는 수작업 (manual input) 의 필요성을 줄일 수 있는 노출 (exposure) 및 개발 (development) 과 같은 프로세스에 통합될 수 있습니다. 이미지 스티칭이 포함된 자동 레벨링 (auto-leveling) 옵션과 같은 추가 기능을 사용하면 나노 스케일 패턴의 재생성을 최적화할 수 있습니다. MICROTEC ACS 200 Gen3에는 최대 4 개의 300mm 웨이퍼를 장착 할 수있는 내장 웨이퍼 로더가 내장되어 있어 다중 배치 처리가 가능합니다. 웨이퍼 (Wafer) 처리는 이중 빔 옵틱으로 개선되어 노출 중 화상 표시를 줄이는 데 도움이됩니다. 또한 프로그래밍 가능한 UV 노출 시간이 있으며, 개발 중인 패턴의 복잡성에 따라 조정 할 수 있습니다. 이 기계의 노출 정렬 엔진은 다른 유사한 시스템에 비해 상당히 향상되었습니다. 여기에는 자동 정렬을위한 조정 가능한 레이저 도구가 포함 된 3 축 웨이퍼 스테이지가 포함됩니다. 또한 자동 튜닝 정렬 알고리즘과 액티브 피쳐 인식 (Active Feature Recognition) 기술을 통해 정렬을 최적화하고 처리 시간을 단축할 수 있습니다. 이 자산에 대한 통합 사용자 인터페이스는 매우 직관적이고 사용자 친화적입니다. 이 기능은 단순화된 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 와 유연한 워크플로우 엔진 (Workflow Engine) 을 통해 모델을 자체 사용자 정의 설정으로 프로그래밍할 수 있습니다. KARL SUSS ACS 200 Gen3 는 독립형 용량으로 작동하거나 클러스터 환경에 통합되는 기능을 갖추고 있습니다. 이 기능은 고객이 이 장비를 단일/다중 시스템 환경에 쉽게 배치할 수 있게 해 주는 중요한 기능입니다. 다중 단위 (Multi-Unit) 환경에서 사용자는 확장성을 향상시켜 복잡한 나노 스케일 (Nanoscale) 구조의 개발을 더욱 강화하면서 시스템 간에 패턴을 쉽게 전송할 수 있습니다. 요약하면, ACS 200 Gen3 (ACS 200 Gen3) 는 공정 최적화를 개선하고 나노 스케일 패턴 제작에 대한 정확한 정렬 및 노출을 가능하게하는 충분한 기능과 기능을 갖춘 고급 포토리스 (photoresist) 기계입니다. 이 도구에는 직관적인 사용자 인터페이스, 다중 축 노출 정렬 엔진 (multi-axis exposure alignment engine), 프로그래밍 가능한 UV 노출 시간, 독립형 또는 다중 모델 환경에 통합되는 기능 등 다양한 매력적인 기능이 있습니다.