판매용 중고 KARL SUSS ACS 200 Plus #293738220

KARL SUSS ACS 200 Plus는 고정밀 리소그래피 및 에치 응용 프로그램을위한 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 매우 다양 한" 포토레지스트' 를 개발 하고 처리 하는 자동화 된 방법 을 제공 하여 여러 가지 기판 에 정확 한 "패터닝 '이나" 에칭' 을 보장 한다. 이 단위는 측면 해상도가 0.5 "m '인 피쳐를 패턴화하는 데 사용될 수 있습니다. 그것 은 미세 한 "레이저 '원 을 사용 하여 광선 에 기판 을 노출 시켜서 작용 한다. 빛 노출은 광저장제의 감도를 변경하는 데 사용됩니다. 변경 된 광전물질 (photoresist) 은 후속 화학 치료 에 따라 다르게 반응하며, 사용 중인 광전물질 (photoresist) 의 종류에 따라 용매 (solvent) 나 에친트 (etchant) 에 대한 내성이 더 작을 것이다. 이렇게 하면 사용자가 기판에 명확하고 정확한 패턴을 만들 수 있습니다. 기계의 고급 현미경은 다양한 웨이퍼 (wafer) 와 기판을 정확하게 시각화하고 검사 할 수 있습니다. 또한 위치 정확도 가 3 "미터 '로서, 기판 의 크기 나 모양 이 어떠 하든지 간 에" 패턴' 이 정확 하게 적용 될 것 이다. 레이저 제어 빔 (laser-controlled beam) 크기는 정확한 피쳐 크기와 정확한 패턴을 제공하는 정밀한 정확도와 함께 균일 한 노출 강도를 제공합니다. ACS 200 Plus는 미리 정해진 마스크 범위 내에서 임계 크기 (CD) 정확도 ± 10% 를 달성 할 수 있습니다. 또한 복잡한 마스크 세트 디자인을 사용할 수 있습니다. 또한, 이 툴에는 여러 프로세스를 병렬로 모니터링하고 제어할 수 있는 프로세스 관리 자산이 있습니다. 이를 통해 모델은 단일 실행으로 다수의 기판을 처리 할 수 있으며, 이를 통해 포토 마스크 제작 (photomask fabrication) 및 대용량/고효율 (high-volume/high-efficient) 생산 프로세스에 이상적입니다. 또한 KARL SUSS ACS 200 Plus는 뛰어난 온도 조절 및 고급 가스 흐름 제어를 통해 웨이퍼 및 기판을 처리 할 때 최고 수준의 재생성을 보장합니다. 그 유연성 은 여러 가지 기질 과 화학 물질 을 사용 할 수 있게 해 주며, 그것 을 여러 가지 "응용프로그램 '에 효과적 으로 사용 할 수 있게 해 준다. 전반적으로, ACS 200 Plus는 고정밀 기능 해상도, 뛰어난 반복성 및 여러 프로세스를 한 번에 처리 할 수있는 고급 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 따라서 photomask 제작, 웨이퍼 처리 및 에칭에 이상적인 선택입니다.