판매용 중고 JEOL JFC-1600 #9261178

JEOL JFC-1600 (JEOL JFC-1600) 은 빛과 자외선 (UV radiation) 의 조합을 사용하여 기판에서 미세한 구조를 생성하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 장치는 고정밀 마스크 정렬기를 사용하는데, 이 마스크 정렬기는 미리 패턴화되고 미리 노출된 포토레지스트 마스크를 기판에 정확하게 배치할 수 있습니다. 마스크 정렬기의 스테이지 해상도는 200 서브 미크론이며, 정밀도가 높은 석판 패턴화가 가능합니다. JEOL JFC 1600은 노출에 i-line 자외선을 사용합니다. 이 빛 은 감도 된 기질 층 을 폭로 하는 데 사용 되며, 광물질 과 화학 반응 을 하여 내구성 있는 "패턴 '을 형성 한다. ··· 노출 된 기판 층 의 "에너지 '와 광학" 프로파일' 을 조절 하기 위하여 빛 의 강도 를 조절 할 수 있다. JFC-1600은 가벼운 노출 외에도 에칭 프로세스를 제공합니다. 에칭 프로세스는 제어 환경에서 플라즈마 (plasma) 를 사용하여 기판에서 원하는 패턴을 생성합니다. "플라즈마 '" 에칭' 과정 은 고도 의 정확도 로 깨끗 한 표면 을 보장 해 주며, 광저항 "필름 '에서 남아 있는 잔류 물 을 제거 한다. JFC 1600 은 트랙 배치 시스템 (Track Placement System) 을 사용하여 원하는 패턴을 기판에 빠르고 정확하게 배치합니다. 이 단위는 리소그래픽 패턴화 (lithographic patterning) 프로세스를 단순화하여 노출된 기판을 정확하게 배치하고 정렬합니다. 마지막으로 JEOL JFC-1600은 난방기를 제공하여 고온 기판 결합을 가능하게합니다. 이 과정 은 원하는 "패턴 '이 기판" 레이어' 에 고정 되도록 하는 데 매우 중요 하다. 고온 결합 (high temperate bonding) 과정을 통해 기판 표면에 대한 패턴의 접착이 향상됩니다. JEOL JFC 1600 (JEOL JFC 1600) 은 매우 효율적이고 정확한 포토 esist 툴로 패턴 프로세스를 정확하게 제어합니다. 이 장치는 단단한 공차 내에서 미세 석판화 패턴 (fine lithographic pattern) 을 생성할 수 있으므로 원하는 패턴이 기판에 안전하게 고정됩니다.