판매용 중고 INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 #9390791

INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING Equipment는 반도체 장치 제작 및 마이크로 제작과 같은 응용 분야에 사용되는 최첨단 포토리스 시스템입니다. 이 제품은 정교한 머신 비전 (machine vision) 기술을 활용하여 제품의 마이크로 패턴화를 위한 높은 정확성과 정밀도를 제공합니다. SF-100 장치는 고유한 이중 노출 기술 (Double Exposure Technique) 과 잘 정의된 광원 (Light Source) 을 사용하여 뛰어난 기능 해상도와 균일성을 제공합니다. 지능형 마이크로 패터닝 SF-100 (INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100) 은 고정밀 광학 포지셔닝 시스템을 사용하여 장치 기판에 따라 포토레지스트 레이어를 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한 자동 노출 (automated exposure) 및 개발 모듈 (development module) 을 통해 포토 esist가 적절하게 노출되도록 보장합니다. 이 모듈은 또한 고해상도 (high- and medium-resolution) 패턴을 지원하여 부적절한 노출로 인한 결함이 최소화되도록 할 수 있습니다. 또한 SF-100에는 정교한 공정 제어 시스템 (photoresist layer) 이 있어 포토레스 레이어를 균일하고 올바르게 개발할 수 있습니다. 이것은 매우 정확한 패턴을 달성하는 데 필수적입니다. 이 기계는 또한 다른 파장의 레이저를 사용하여 포토 esist에 패턴을 직접 작성하는 레이저 라이터 헤드 (Laser Writehead) 를 포함합니다. 이 도구에는 고해상도 (Optical Imaging) 에셋이 장착되어 있으며, 사용자가 결정할 수 있습니다. 5 um 미만의 기능으로 미세한 패턴을 쉽게 만들 수 있습니다. 이 모델은 트렌치 (trench), 홈 (groove) 또는 구덩이 (pits) 와 같은 더 세밀한 세부 사항을 포함하는 리소그래피 작업에 사용할 수 있습니다. 지능형 MICRO PATTERNING SF-100 지능형 MICRO PATTERNING 장비는 인쇄 및 개발 측면에서 최대의 유연성을 제공합니다. 매우 복잡한 작업을 더 잘 수용하기 위해 배치 (Batch) 와 연속 (Continuous) 모드 작업을 모두 수행합니다. 또한 다양한 장치 응용 프로그램에 적합한 다양한 호환 코팅 (compatible coating) 및 포토 esist 재료가 있습니다. SF-100 시스템은 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 쉽게 작동할 수 있습니다. 사용자는 장치 매개 변수를 빠르고 정확하게 조정할 수 있습니다. 또한 여러 안전 시스템 (Safety System) 이 포함되어 있어 포토리스 연주자 (photoresist) 와 장치 기판이 전체 프로세스 전반에 걸쳐 원시 상태로 유지됩니다. INTELLIGENT MICRO PATTERNING SF-100 INTELLIGENT MICRO PATTERNING Machine은 고품질의 초정밀 마이크로 패턴을 제작하는 데 유용한 도구입니다. 반도체 소자 제작에서 마이크로머치닝 (micromachining) 에 이르기까지 다양한 응용프로그램에 대해 단단한 기능 패턴을 생산할 수 있다. SF-100 은 신뢰성 있는 작동과 정확한 결과를 바탕으로 최고의 장치 정확성과 재현성을 달성하기에 적합합니다.