판매용 중고 HYPER 50AS #9247053

HYPER 50AS는 반도체 장치, 포토마스크 제작, 광학 스토리지 미디어 리소그래피, 디스플레이 등 다양한 응용프로그램을 위해 설계된 고해상도 감광 장비입니다. 기존의 사진작가보다 더 높은 해상도를 제공하는 고급 이미징 (advanced imaging) 기술을 사용합니다. 이 시스템은 광원 (Light Source), 광사 (photoresist) 및 마스크 (Mask) 를 포함한 여러 컴포넌트로 구성됩니다. 광원은 아크 램프 (arc lamp) 인데, 마스크 (mask) 가 장착되어 있고 빛의 강도가 높습니다. 빛은 고정 된 스테이지 거울로 photoresist에 중점을 둡니다. photoresist는 양성 또는 음성 photoresist라는 빛에 민감한 물질로 구성됩니다. 이 물질은 기판에 적용되어 광원에 노출됩니다. 노출 후, 광전자가 개발되어, 광전자의 노출 및 노출되지 않은 영역을 선택적으로 제거한다. 투명 한 기질 위 에 있는 얇은 금속층 인 "포토마스크 '를 기판 위 에 놓고 광원 에 노출 시킨다. 그" 포토마스크' 는 이렇게 말 한다. "마스크 '안 에 있는 구멍 들 은 photoresist 에서 발전 될 패턴 을 정의 한다. 포토 마스크 (photomask) 는 석판화 응용 프로그램에 사용되며, 여기서 패턴은 기판으로 전달됩니다. 50AS 장치에는 리소그래피를 쉽고 안정적으로 만드는 여러 가지 기능이 있습니다. 기계에는 마스크 정렬 및 정확한 패턴 배치에 사용되는 높은 정밀도 스테핑 모터 (stepping motor) 가 있습니다. 자동 초점 기능 (Automatic focus feature) 은 이미지를 수동으로 초점을 맞추는 데 소요되는 시간을 제거해 줍니다. 이 도구에는 자동 노출 제어 (Automatic Exposure Control) 가 있으므로 원하는 노출 수준이 달성됩니다. 또한 HYPER 50AS는 생산성을 향상시키는 여러 가지 추가 기능을 제공합니다. 에셋에는 실시간 이미지 모니터링 및 통계 데이터 수집이 가능한 CCD 카메라가 내장되어 있습니다. 자동 추적 기능은 수동 패턴화를 제거하고 정확성을 보장합니다. 마지막으로 모델에는 레이아웃 편집, 프로세스 추적, SCM (Equipment Configuration Management) 등 여러 소프트웨어 패키지가 내장되어 있습니다. 50AS는 마이크로패브라이션 어플리케이션을 위한 고해상도와 안정적인 이미지를 제공합니다. 고급 기능 및 통합 소프트웨어 패키지는 마이크로패브라이션 (microfabrication) 프로세스에 뛰어난 유연성과 생산성을 제공합니다.