판매용 중고 HONJIG HJ-W201 #9172387

HONJIG HJ-W201 포토레시스트 (photoresist) 장비는 다양한 포토리토그래피 프로세스를 위한 고성능 및 완벽한 기능을 갖춘 솔루션입니다. 반도체, 인쇄 회로 기판, 전자 부품 등의 고급 (fine) 기능을 제조하는 데 적합합니다. 이 시스템은 강력한 레이저 소스 (laser source), 고급 광학 이미징 장치 (optical imaging unit) 및 정밀 정렬 단계 (precision alignment stage) 를 결합하여 작고 복잡한 기능의 생산에 필요한 정확하고 반복 가능한 노출이 가능합니다. 연속 에치 (continuous etch) 및 비연속 노출 (non-continuous exposure) 을 수행 할 수 있으므로 무제한 범위의 복잡한 모양과 광석기 학적 구조를 패턴화하는 데 적합합니다. 이 기계의 핵심 구성 요소는 고출력 레이저 소스 (high-power laser source) 로, 매우 정확한 노출을 생성합니다. 고강도, 고해상도 레이저 스캔 (Laser Scan) 을 생성하는 한편, 특정 제작 프로세스의 요구에 맞게 유연하게 조정할 수 있습니다. 레이저의 펄스 너비 (pulse width), 출력 (power output) 및 주파수 (frequency) 를 모두 조정하여 광범위한 노출 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 이 도구는 또한 큰 FOV (Field of View) 와 조정 가능한 초점 메커니즘을 포함하여 정교한 광학 이미징 자산을 갖추고 있습니다. 이를 통해 노출 된 포토 esist 물질의 고해상도 이미징이 가능합니다. 이미징 모델은 정교한 정렬 단계와 통합되어 포토 마스크 (photomask) 및 기판 (substrate) 재료를 정확하고 반복적으로 배치할 수 있습니다. 이 장비에는 노출 프로세스 프로그래밍 및 제어를위한 포괄적이고 사용자 친화적 인 소프트웨어 인터페이스가 포함되어 있습니다. 레이저 전원, 주파수, 펄스 너비, 지속 시간 및 패스 수를 제어할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 또한 자동 피드백 루프 (feedback loop) 를 제공하여 노출 된 포토 esist 물질을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 마지막으로, 이 시스템에는 레이저의 UV 필터 (UV filter), 우발적 노출로부터 보호하기위한 라이트 커튼 (Light Curtain), 비상 사태의 경우 즉시 종료를위한 비상 오프 스위치 (Emergency Off Switch) 등 다양한 안전 기능이 포함됩니다. 결론적으로, HJ-W201 포토 esist 유닛은 포토 리토 그래피 및 패턴 프로세스를위한 강력하고 완전한 기능을 갖춘 솔루션입니다. 이 제품은 강력한 레이저 소스 (Laser Source), 고급 광학 이미징 (Optical Imaging), 정밀 정렬 단계 (Precision Alignment Stage) 를 갖추고 있어 세밀하고 복잡한 기능을 제작하기 위해 정확하고 반복 가능한 노출이 가능합니다. 이 시스템에는 포괄적이고, 사용자에게 친숙한 소프트웨어 인터페이스와 다양한 안전 기능도 포함되어 있습니다.