판매용 중고 HONGSU BOE #9328964

HONGSU BOE는 고정밀 마이크로 일렉트로닉 장치의 생산에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 보호 코팅이 내장 된 스핀 온 포토 esist (spin-on photoresist) 물질로, 자유형 마이크로 일렉트로닉 환경에서 안정성과 안정성을 제공합니다. 현대 장치 설계의 요구 사항을 구체적으로 충족하도록 설계되었습니다. 광전자 물질은 마이크로 일렉트로닉 장치의 기질에 스핀 코팅된다. 그런 다음, 민감성 물질은 자외선 (UV light) 에 노출되며, 이는 노출 된 물질의 특성을 선택적으로 변화시킨다. 원하는 패턴이 생성되면, 과잉, 미처 포토레지스트가 제거됩니다. 이것은 플라즈마 에칭, 습식 화학 에칭 또는 레이저 머시닝으로 수행 될 수 있습니다. BOE는 건식 필름 및/또는 습식 필름 기술 (dry film and/or wet film technology) 을 사용하여 개발 단계, 에칭 단계, 최종적으로 치료하는 프로세스 단계를 포함하여 photoresist 프로세스의 모든 측면에 맞출 수있는 완전히 개발 된 유닛입니다. 그 결과 생기는 장치 는 수분 및 환경 오염 에 내성 이 있어서, 광저항 장치 (photoresist device) 의 분해 를 초래 할 수 있다. 이것은 HONGSU BOE 기계에 보호 코팅이있는 결과입니다. BOE 툴은 특히 안정성과 안정성이 훨씬 뛰어나기 때문에, 다른 시스템에 비해 장점을 제공합니다. 포토레스 소재 (photoresist material) 는 제조 과정에서 안정적으로 유지되고 무결성을 유지하도록 설계되어 결함이 적어지고 장치에 대한 신뢰성이 향상됩니다. 또한, 에셋은 정렬 된 감광층 (photosensitive layer) 과 집중 광원 (focused light source) 으로 인해 광석학 과정에서 높은 정밀도를 가능하게한다. 따라서 디바이스가 항상 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. 마지막으로, HONGSU BOE 모델은 고급 도구와 기술을 사용하여 생산 된 마이크로 일렉트로닉 장치 (microelectronic device) 가 최고 품질인지 확인합니다. 회전 웨이퍼 스테이지 (rotating wafer stage), 진공 장비 (vacuum equipment), 모니터 (monitor) 와 같은 장비는 모두 포토리스트 시스템의 요구 사항에 맞춰 조정되어 포토리스토그래피 프로세스의 효율적이고 정확한 성능을 제공합니다. 이렇게 하면 지정된 모든 애플리케이션에 대해 안정적이고 사용자 정의 (customized) 프로세스를 사용할 수 있으며, 제조 프로세스를 단순화하는 데 도움이 됩니다. 결론적으로, BOE는 신뢰할 수 있고 일관된 결과를 제공하는 포괄적 인 포토 esist 단위입니다. 마이크로 일렉트로닉 장치 용으로 특별히 설계되었으며, 정밀 구동 기계 및 보호 코팅이 특징입니다. 이 도구는 또한 높은 수준의 안정성과 정확성을 제공하며, 사용하기 쉽고 유지 관리가 용이합니다. 전반적으로 HONGSU BOE는 복잡하고 정밀도가 높은 장치 설계에 이상적인 포토 esist 자산입니다.