판매용 중고 HITACHI PR stripping system #293670389

HITACHI PR stripping system
ID: 293670389
HITACHI PR 스트립핑 장비는 HITACHI High-Technologies Corporation의 독점 기술을 사용하는 포토 esist 제거 시스템입니다. 이 장치는 다양한 반도체 및 박막 장치 fab 프로세스에서 사용하도록 설계되었습니다. 이 기계는 유전층, 포토 esist 및 기타 유기 잔기와 함께 사용하기에 적합합니다. 이 도구는 신뢰성이 높으며 photoresist를 빠르고 효율적으로 제거 할 수 있습니다. 적외선 (IR) 빛, 자외선 및 건열 조합을 사용합니다. 세 가지 구성 요소의 조합은 핫 (hot) 및 콜드 드라이 스트립핑 (cold dry stripping) 을 모두 허용합니다. 이 자산은 적외선 기술을 사용하는데, 이 기술은 지역화 된, 통제 된 에너지를 제공하며, 포토레지스트 층을 정확하게 감지합니다. 자외선 (UV) 성분은 포토 esist의 비 접촉 화학 활성화를 제공하고 정밀 스트리핑을 가능하게함으로써 에칭 과정을 향상시킨다. 히터는 포토 esist 및 유전체의 핫 스트립핑을 제공하는 데 사용될 수 있습니다. 이 모델은 스트립핑 품질을 향상시키기 위해 최적화된 매개변수를 기반으로하며 웨이퍼-웨이퍼 (wafer-to-wafer) 변이가 낮습니다. 높은 처리량을 달성하면서 입자 및 결함 형성을 최소화하도록 설계되었습니다. 장비에는 열의 균일 한 분포를 보장하기 위해 내부 및 외부 가열 요소의 진동이있는 "3 차원" 가열 기능이 포함됩니다. 이것은 균일 한 우회 속도를 보장합니다. 또한, 광변속기를 증가시키기 위해 샘플에 적용되는 특수 필름 (special film) 은 적외선 및 UV 컴포넌트의 감지 정확도를 향상시킵니다. 사용자는 프로세스의 매개변수를 모니터링, 변경, 저장할 수 있는 터치스크린 인터페이스 (touchscreen interface) 가 장착됩니다. 온도 조절, 압력 제어 및 레이어 두께 모니터링도 있습니다. 이 장치는 photo-lithography, litho-etching 및 dry etching을 포함한 다양한 photoresist 제거 프로세스에 사용될 수 있습니다. 유전체 및 유기 잔기와 함께 사용하기에 적합합니다. 이 기계는 신뢰성이 높으며, 품질이나 처리량을 그대로 유지하면서 빠르고 정확한 스트리핑을 제공합니다.
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