판매용 중고 HEADWAY PWM101 #168411

HEADWAY PWM101 Photoresist Equipment는 photoresist 응용 프로그램의 직접 이미징을 위해 설계된 UV 광 노출 시스템입니다. 이 장치에는 온보드 "직접 이미징 (direct-imaging)" 현미경이 장착되어 photoresist 웨이퍼와 함께 향상된 이미지 시청 및 정확한 위치를 제공합니다. 이 기계는 또한 특허를받은 2 축 거울 편향 도구 (photoresist wafer) 의 목표 영역에 대한 정확한 정렬을 보장하는 2 축 거울 편향 도구 (two-axis mirror deflection tool) 를 갖추고 있습니다. "에셋 '의" 디자인' 은 또한 사용자가 가변 광원 에 따라 노출 강도 를 변화 시킬 수 있게 해 준다. 이 모델에는 포토 esist의 다양한 스펙트럼 감도와 일치하는 정밀 더블 스트룽 (double-strung) 쿼츠 광원이 장착되어 있습니다. 이 이중 스트룽 석영 광원은 일관된 광도 균일 성과 장기 신뢰성을 가지고 있습니다. 광원은 또한 통합 안전 방패 (Safety Shield) 와 유리 챔버 (Glass Chamber) 내에 단단히 보관되어 있어 장비를 통해 손실되는 빛의 양을 줄입니다. 이 시스템은 또한 독점 미러 디플렉션 유닛 (reflection unit) 을 통합하여 포토 esist 물질을 정확한 영역으로 전달 할 수 있습니다. 기계는 2축 X-Y 방향으로 작동하는 기계식 드라이브 (mechanical drive) 를 사용하여 올바른 영역에 포토레지스트 (photoresist) 재료를 정확하게 배치할 수 있습니다. 해상도 1.5 µm, 반복 가능성 0.01 äm로, 포토 esist 재료의 위치는 매우 정확하고 정확합니다. 마지막으로, 이 도구에는 자산 설정 및 작동이 용이한 컴퓨터 제어 인터페이스 (computer control interface) 도 있습니다. 이 소프트웨어는 모델과 통합되어 광원 강도 (Light Source Intensities), 카메라 노출 (Camera Exposure), 미러 각도 (Mirror Angle) 를 조정하여 원하는 결과를 얻을 수 있도록 합니다. 이를 통해 사용자는 수작업 (Manual Intervention) 이나 하드웨어 교체 없이도 빠르게 조정하고 포토리스 처리 (Photoresist Processing) 를 세밀하게 조정할 수 있습니다. 요약하면, PWM101 Photoresist Equipment (PWM101 Photoresist Equipment) 는 포토 esist 프로세스를 정확하고 정확하게 제어하도록 설계된 고급 시스템입니다. 이 장치는 장기 신뢰성과 다재다능성, 조절 가능한 광원 강도, 카메라 노출 및 거울 각도를 가지고 있습니다. 또한 컴퓨터 제어 인터페이스 (computer control interface) 를 통해 사용하기 쉽고 사용자 정의 설정을 빠르고 효율적으로 조정할 수 있습니다.