판매용 중고 HEADWAY LM22-PWM-103 #9181822

HEADWAY LM22-PWM-103은 반도체 제조 및 기타 마이크로 전자 처리 응용 분야를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 200mm ~ 300mm 와퍼 (wafer) 의 다양한 프로세스 크기를 수용할 수 있으므로 다양한 작업에 이상적입니다. 이 시스템은 최대 250 ms의 노출 시간을 조정할 수있는 고급 4 채널 PWM 광원을 갖추고 있습니다. 필름 처리를 위해 향상된 균일성 (unifority) 과 매끄러움 (smothness) 을 제공하며, 수율을 최적화하기 위해 필름 두께 및 기타 매개변수에 대한 정확한 제어를 허용합니다. 또한, 이 장치에는 고급 자동 냉각 장치 (Automatic Cooling Machine) 가 있어 고생산성 환경에서 생산성을 높이기 위해 광화학 반응 시간을 줄입니다. 이 도구에는 자유형 (free-form) 광학, 원통형 (cylindrical) 렌즈, 타원형 거울 등 다양한 광학 구성을 원하는 이미징 결과를 얻기 위해 사용할 수 있도록 하는, 내장형, 독특한 적응형 광학 플랫폼이 있습니다. 이를 통해 다양한 크기의 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 이미징하고 배치할 수 있으며, 처리 속도가 빨라집니다. 안전성을 위해 자산은 고급 (advanced) 다중 채널 (multi-channel) 통합 제어 모델을 통해 처리 환경의 온도, 압력, 타이밍 등 다양한 매개변수를 제어할 수 있습니다. 이것은 일관된 필름 처리 조건을 유지하고 오염 위험을 예방하는 데 도움이됩니다. 이 장비는 또한 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphic User Interface) 를 갖추고 있으며, 이 인터페이스를 통해 사용자는 시스템의 매개변수를 보고 제어할 수 있습니다. 이 편리하게 작동하는 장치는 또한 특정 프로세스에 대한 사용자 지정 레시피 (custom-made recipe) 를 작성함으로써 더 큰 유연성을 허용합니다. 전반적으로 LM22-PWM-103 포토 esist 머신은 시장에서 가장 고급적이고 다용도 시스템 중 하나입니다. 통합 (Integrated) 기능과 강력한 구성 요소를 통해 다양한 어플리케이션을 위한 포토레시스트 (photoresist) 툴이 필요한 사용자에게 완벽한 선택이 가능합니다. 광범위한 기능을 통해 최적의 결과와 향상된 수율을 제공할 수 있습니다.