판매용 중고 HEADWAY EC 102 #9123998

HEADWAY EC 102는 마이크로 리토 그래피 광학 인쇄 응용 프로그램의 높은 종횡비 트렌치 (aspect ratio trench) 에서 생산 수율을 증가시키기 위해 설계된 단일 코팅, 음성 포토 esist 장비입니다. 포토 esist 시스템은 긍정적 인 포토 esist, EC 102 및 함께 작동하는 개발 화학으로 구성되어 향상된 해상도, LER (low line edge roughness) 및 개선 된 라인 너비 제어를 제공합니다. 양성 광물질 인 HEADWAY EC 102는 장쇄 중합체, 광산 생성기 및 향상된 평면 화를 제공하는 첨가제 융합으로 구성됩니다. 장쇄 폴리머 구조는 열 치료 시스템보다 높은 해상도와 더 나은 LER (line edge roughness) 를 초래하는 반면, 광산 생성기 및 가산 융합은 더 높은 식각 선택성 비율을 제공하여 평면 화를 향상시킵니다. EC 102 포토 esist 유닛의 화학은 높은 식각 선택성, 장기 안정성, 다양한 기질에 대한 우수한 접착력을 제공하도록 최적화되었습니다. 이 기계는 저온 베이킹 요구 사항을 가지고 있습니다. 즉, 처리 중 고온의 영향을 받지 않습니다. 또한, 포토 esist는 백 사이드 애싱 및 리프트 오프 프로세스 동안 최대 300 ° C까지 견딜 수 있습니다. HEADWAY EC 102 포토 esist 도구는 생산 라인에 높은 스루풋을 제공하도록 설계되었습니다. 저온 베이킹 요구 사항을 통해 기판 통합 및 사전 코트 처리, 단축 주기 시간이 빨라집니다. 또한 다양한 표준 처리 장비 (예: 웨이퍼 클리너, 건조기, 노출 시스템) 와의 호환성은 저렴한 비용으로 높은 성능을 보장합니다. 또한 EC 102 포토 esist 자산은 신뢰성이 높습니다. 열, 가수 분해, 산화 안정성이 높아 다양한 처리 온도, 환경에서 사용될 수 있습니다. photoresist 모델도 사용하기 쉽습니다. 강력한 제형은 모든 온도, 습도 및 노출 조건에 적합합니다. 요약하면, HEADWAY EC 102는 뛰어난 해상도, LER (Line Edge Roughness) 및 라인 너비 제어를 제공하도록 설계된 단일 코팅, 네거티브 포토리스트 장비입니다. 저온 베이킹, 고음질 선택성, 장기 안정성, 다양한 표준 처리 장비와의 호환성을 통해 마이크로 리토 그래피 (micrelithography) 광학 인쇄 어플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다.