판매용 중고 HEADWAY EC 101 #9123974

HEADWAY EC 101은 전자 산업 어플리케이션을 위해 특별히 설계된 고성능 저항 코팅입니다. 매우 미세한 해상도 형상이 필요한 평면 및 3D 기판 모두에 적합한 솔루션입니다. 다층, 음성 작동 코팅 장비는 하프 톤 또는 토너 호환 저항과 함께 고성능 B 단계 폴리 이미 드 유전체 재료를 통합합니다. HEADWAY EC101 의 주요 기능 중 하나는 매우 패턴적이고 반복 가능한 성능입니다. 수직과 수평 방향으로 모두 고해상도를 제공하므로, 넓은 조리개 (aperture) 와 선 너비 (line width) 를 가진 매우 평평한 표면의 복잡한 모양에서 금속화에 이상적입니다. 코팅은 매우 높은 소산 음향 파 또는 광석기 학적 방법으로 패턴 화 될 수 있습니다. 이러한 다양성을 통해 다양한 칩 패키지, 컴포넌트 어셈블리, 테스트/검사 어플리케이션, 그리고 MEMS 및 기타 마이크로 스케일 컴포넌트의 생산이 가능합니다. EC 101은 안정적이고 효과적인 포토 esist 시스템을 제공하도록 설계되었습니다. 유전체 층은 화학 에칭에 강하고, 저항층은 공정 후 오염 물질 (오염 물질) 과 손상 (손상) 으로부터 보호 될 수있다. 레이어는 photorregisters 및 관련 photoresist 처리 구성 요소와 같은 업계 표준 처리 보조기와 호환되도록 설계되었습니다. EC101은 더 복잡한 애플리케이션을 위해 다른 고급 저항 시스템과 함께 사용할 수 있습니다. 또한 형성, 형성, 드릴링과 같은 다른 전자 프로세스에서도 잘 작동합니다. 또한, nanofabrication 기능은 MEMS 구성 요소 통합을 위해 광범위한 애플리케이션을 제공합니다. HEADWAY EC 101은 뛰어난 패턴 해상도의 신뢰할 수있는 포토 esist 장치를 제공하도록 설계되었습니다. 나노 스케일 제작 기능은 마이크로 일렉트로닉스 산업 응용 프로그램을 위해 고급 기능을 제공합니다. MEMS, 칩 패키지, 컴포넌트 어셈블리, 테스트 및 검사 응용 프로그램 제조에 이상적입니다. 이 제품은 반복 가능하고 고화질의 해상도 (Fidelity Resolution Performance) 를 위해 설계되었으며, 안정적이고 효율적인 포토리스 (Photoresist) 머신을 찾는 제조업체에 적합한 솔루션입니다.