판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 #293600194

ID: 293600194
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2008
Spray cleaning system, 12" 2008 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON ZETA 300 G3 포토 esist 장비는 반도체 칩에서 패턴을 에치하도록 설계된 전용 석판 도구입니다. 포토리스 스트 (Photoresist) 는 광도를 도구로 사용하는 칩에 패턴을 에칭하는 과정인 포토리토그래피 (photolithography) 에 사용되는 광도 민감성 필름입니다. FSI Zeta 300 G3 시스템은 통신 기술, 메모리 장치 등 다양한 애플리케이션에서 사용하도록 제작된 칩에 미세한 에칭을 제공할 수 있습니다. 고급 노출 장치를 사용하여 TEL Zeta 300 G3는 최대 1 미크론의 정확성과 높은 해상도로 선명하고 깨끗한 이미지를 만들 수 있습니다. 이 고급 광학 머신에는 고출력 램프 (high power lamp) 와 이 도구를 위해 특별히 개발된 맞춤형 코팅 (custom coating) 을 갖춘 렌즈 (lens) 가 포함되어 있으며, 노출 과정에서 안정적인 고해상도를 제공합니다. 또한, 에셋에는 이방성 에칭 (anisotropic etching) 기술이 장착되어 정전기 패턴의 정확한 제어가 칩에 패턴을 에칭 할 수 있습니다. 이 모델에는 다양한 칩 디자인과 복잡한 에칭 (etching) 에 대한 사용자정의 설정이 가능한 다중 파장 광 엔진 (optical engine) 도 있습니다. 또한 장기 사용을 견딜 수있는 내구성이 있으며, 하루에 최대 10 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 장비는 또한 광학 무결성 (optical integrity) 의 모든 측면에 대해 세심하게 조사되어 정확성과 정확성을 보장합니다. TOKYO ELECTRON Zeta 300 G3 시스템은 고급 기능 외에도 작동하기 쉬운 기능적 설계를 제공합니다. 완전 자동화 장치 (Fully Automated Unit) 가 특징이며 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 가 장착되어 있어 제조 프로세스의 모든 단계를 정확하게 제어할 수 있습니다. Zeta 300 G3 기계는 반도체 석판화 및 에칭을위한 신뢰할 수 있고 강력한 솔루션입니다. 고급 노출 도구 (Advanced Exposure Tool) 와 옵티컬 엔진 (Optical Engine) 을 통해 이 자산은 정확하고 정확한 에칭을 가능하게 하며, 칩 제작을 위한 탁월한 솔루션을 제공합니다. 직관적인 GUI (Graphical User Interface) 와 자동화된 모델도 간단하고 쉽게 작동할 수 있습니다.
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