판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 3500 #9092708
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ID: 9092708
웨이퍼 크기: 12"
Coater / Developer system, 12"
(2) Coat/Develop spin modules
Coat/blank spin module
Prime/Bake/Chill modules; (0) prime stations; (4) bake stations; (3) chill stations
Prime/Bake/Chill modules; (1) prime stations; (4) bake stations; (2) chill stations
I/O with (2) 12" FOUP platform
Scanner Interface
6-Axis wafer handling systems
Polaris water chiller II
(2) Carbon filter stack modules
Robot controller cabiner
User Interface Panel
Corner Dispense module
Electronic control module
T/H Environmental control system: cluster Plemm and ram 2000
Facilities platform
Electrical power distribution system
Stepper breezerway kit.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON POLARIS 3500은 뛰어난 품질의 포토 esist 레이어를 생산할 수있는 최첨단 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 독점적 인 블라인드 노출 (blind exposure) 기술을 사용하여 넓은 영역에 대한 결함이 최소화되면서 정확하고 반복 가능한 이미지 전송을 가능하게 합니다. 높은 처리량으로 직경 300mm (최대 300mm) 의 대형 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 포토리스 (photoresist) 장치는 고급 모션 컨트롤러 (advanced motion controller) 에 의해 제어되는 매우 정확한 웨이퍼 처리 기계를 포함하며, 가장 연약한 기질조차도 처리 할 수 있습니다. 또한, 이 도구는 노출 소스에 대한 기질의 정확한 위치를 지정하기위한 고해상도 선형 단계 (high resolution linear stage) 와 노출 중 안전한 작동을 보장하는 UV 차단 하우징 (UV blocking housing) 을 갖습니다. FSI Polaris 3500은 가능한 최고 품질의 photoresist 레이어를 생산하도록 설계되었습니다. 에너지, 용량, 시간과 같은 노출 매개변수를 제어하기 위해 ARPS (Automated Recipe Processing Asset) 가 장착되어 있으며, 이 모델은 예측 가능한 방식으로 매우 균일 한 저항 레이어를 생성 할 수 있습니다. TEL Polaris 3500은 동급 최고의 처리량과 프로세스 안정성도 제공합니다. 고급 백사이드 (backside) 청소 장비는 웨이퍼 결함을 줄이기 위해 설계되었으며, 저항층 처리가 빨라지는 래피드 런 (Rapid Run) 시스템도 있습니다. 이 장치에는 엣지 프리 (edge-free) 표면 프리 트리트먼트 머신 (pre-treatment machine) 이 장착되어 기판 가장자리의 저항 축적을 방지하여 패턴 품질을 향상시킵니다. TOKYO ELECTRON Polaris 3500은 안정적이고 효율적인 포토 esist 도구입니다. 모듈식 설계를 통해 유지 보수가 용이하며, 자산은 고급 제어 알고리즘을 사용하여 에너지 (energy) 와 용량 (dose) 의 효율을 높여 최고의 프로세스 안정성을 보장합니다. 전반적으로, 이 포토레시스트 (photoresist) 모델은 우수한 프로세스 결과를 제공하며, 광범위한 반도체 응용에 적합한 선택입니다.
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