판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Orion #9391810

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON ORION은 반도체 제조 산업을 위해 특별히 설계된 포토 esist 장비입니다. 광전물질 (Photoresist) 은 반도체 재료에 깨끗하고 부드러운 표면을 만들기 위해 많은 반도체 제조 공정에 사용되는 화학 물질의 한 유형입니다. FSI Orion photoresist 시스템은 깨끗하고 날카로운 리소그래피 결과를 만들 수있는 정밀도, 미세 제어, 고성능, 라인 반도체 처리 장치의 상단입니다. TEL 오리온 (TEL Orion) 은 높은 반복 속도와 초단파 펄스 레이저를 포함한 다양한 소스 구성을 사용하여 고정밀도 포토레지스트 패턴을 만듭니다. 고급 파장 제어 (Advanced wavelength control) 와 고도로 조정 가능한 광학 공정으로, 기계는 10 나노미터 크기의 피쳐를 패턴화할 수 있습니다. 포토 esist 층은 매우 균일 한 필름 증착을 보장하기 위해 정밀하게 제어됩니다. 이 도구는 또한 다양한 포토레지스트 (photoresist) 재료를 처리 할 수 있으며, 이를 통해 회사는 다양한 리소그래피 프로세스를 개발 할 수 있습니다. 자산의 주요 기능에는 패턴, 청소, 온도 조절, 건조 및 베이킹이 포함됩니다. 패턴화는 박막 품질을 제어하면서 포토레시스트의 미세한 레이어를 생성합니다. 정확한 온도 조절을 통해 모델은 재료를 빠르고 안전하게 청소하고 건조시킬 수 있습니다. 장비는 또한 정확한 베이킹 (baking) 프로세스를 제공하여 에칭 프로세스 중 리소그래피 결과를 개선하는 데 도움이됩니다. 이 시스템은 고성능, 정밀도, 제어 기능 외에도, 예술 안전 상태 (State of Art Safety) 및 환경 기능 (Environmental Features) 도 포함합니다. 안전하고 깨끗하고 효율적인 포토레지스트 처리를 제공함으로써 TOKYO ELECTRON ORION 장치는 일관된 프로세스 성능과 고해상도 리소그래피 결과를 보장합니다. 오리온 포토레시스트 머신 (Orion photoresist machine) 은 반도체 웨이퍼에 깨끗하고 정확한 기능을 빠르게 만들 수 있는 안정적이고 비용 효율적인 방법이 필요한 반도체 제조업체에 이상적인 도구입니다. 고급 기능, 정확한 제어, 신뢰할 수 있는 프로세스 결과를 통해 모든 반도체 제작 프로젝트를 완벽하게 선택할 수 있습니다.