판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9237638

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ID: 9237638
Spray cleaning system P/N: 300982-003.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury는 다양한 칩 제조 공정에 사용되는 포토 esist 장비입니다. Photoresist 또는 photo-resist는 전자 장치의 일부를 형성하는 데 사용되는 재료입니다. 빛에 노출되면 화학적, 물리적 특성을 바꾸는 감광 중합체입니다. 광설계사 는 금속 을 배치 하고, "에치 '무늬 를 만들고," 칩' 의 단열층 을 형성 하는 데 사용 될 수 있다. FSI Mercury 시스템은 뛰어난 성능을 제공하는 고급 포토 esist 도구입니다. 이 장치는 스텝 앤 리피트 (step-and-repeat) 기능이 있는 스테퍼 유닛과 고효율 크세논 램프 (xenon lamp) 광원을 사용하는 대용량 노출 머신으로 구성됩니다. 대용량 노출 (Large Area Exposure) 툴은 상당한 시간 단축을 통해 완전 자동화된 제조 프로세스를 지원합니다. 또한 photoresist 에셋과 더 높은 해상도, 일관된 성능 및 뛰어난 대비를 제공합니다. TEL Mercury 모델에는 자동 웨이퍼 처리 장비와 자동 정렬 시스템이 있습니다. 웨이퍼 처리 장치 (wafer handling unit) 를 사용하면 노출 도구에 웨이퍼를 정확하게 제어하고 배치할 수 있습니다. 자동 정렬 기계는 고급 알고리즘을 사용하여 매우 정확한 패턴 배치를 수행합니다. 이를 통해 결과의 정확성이 매우 일관되고 반복 가능해질 수 있습니다. 이 도구는 필터링 (filtering) 을 통해 웨이퍼에 빛을 전달하도록 설계된 특수화된 광학 어레이를 사용합니다. 이렇게 하면 고밀도 의 "패터닝 '장치 에 필수적 인 고도 와 강력 한 광도 를 낼 수 있다. 또한, 광학은 빛을 변조하여 다른 광학 효과를 달성하고, 노출 시간을 제어할 수 있습니다. 수은 자산은 고정밀 칩 제조를위한 다재다능하고 강력한 도구입니다. 이 제품은 정확한 제어, 뛰어난 명암비, 균일 한 광도, 정확한 정렬 기능을 제공하여 반도체 장치를 매우 효율적으로 생산할 수 있습니다. 이 모델은 칩 제조 (chip manufacturing) 에서 최고 수준의 성능과 신뢰성을 달성하도록 설계되었으며, 칩 제조업체에게는 귀중한 도구입니다.
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