판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073573

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ID: 9073573
웨이퍼 크기: 6" - 8"
Spray processor (6) Cassettes for 6" wafers (4) Cassettes for 8" wafers PLC Controller 15" Touchscreen LCD display PFA High purity pneumatic operated valve No metal contamination In line ultrapure DI water heater Canister console Recirculation tank for HF / BOE Chamber temperature measurement (52) Modernized helios: Communication compatible with FSI Mercury over RS232 RJ45 Ethernet communication Modern and reliable SSR relay Touch screen display operation Intuitive user interface Auto adaptive temperature regulation High reliability Events archive Modernized safety features Remote control and supervision Process availability: B Clean C Clean RCA Clean SC1 Clean SC2 Clean Oxide etch Ozone clean Piranha clean Rise and dry Canister configuration: 1st canister console: H2SO4, HCl, DHF canisters 2nd canister console: H2O2, NH4OH canisters Flow meter configuration: H2SO4 - 200 - 2000 sccm HCl - 30 - 400 sccm DHF - 200 - 2000 sccm H2O2 - 30 - 400 sccm NH4OH - 30 - 400 sccm Dual exhaust configuration: (2) Drain PFA 6" / (6) Position turntable included Control system with HMI Valves and PFA lines in process console Not included: Filter cartridges Controller with HMI interface.
FSI 머큐리 (FSI MERCURY) 는 마이크로 일렉트로닉스 산업에서 일반적으로 사용되는 실리콘 웨이퍼에 마이크로 (micro) 및 나노 스케일 (nanoscale) 기능을 정확하게 에칭하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 포토레스 기술 (Photoresist Technology) 은 포토리스 그래피 제작 과정에서 반도체 기질에 대한 정확한 패턴 또는 특징을 만들기 위해 포토레 시스트 (photoresist) 로 알려진 감광 필름 유형을 정확한 광선 기반 패턴에 노출시키는 것을 포함한다. 머큐리 (MERCURY) 는 FSI 제품 라인에 추가된 것으로, 다른 FSI 제품보다 더 고급적이고 복잡한 기능을 생산할 수 있도록 설계되었습니다. 이 시스템은 직접 레이저 패턴화 (direct laser patterning) 를 사용하는데, 이는 최대 0.1 m의 정확도로 패턴을 생성하기 위해 초점 크기가 10 m 미만인 것을 특징으로하며, 복잡한 마이크로 및 나노 스케일 패턴을 에칭 할 때 뛰어난 해상도를 제공합니다. 이 장치 는 독특 한 화학기계 를 가지고 있는데, 이것 은 다른 광전자 (photoresist) 제품 에 비하여 "에칭 '시간 이 더 빠르며, 전자 빔 무늬 와 관련 된 시간 과 비용 을 줄여준다. 화학적 도구 (chemical tool) 는 우수한 해상도와 함께 에지 오버 슈트 (edge-overshoot) 가 없으면 좁은 선이 생성 될 수 있음을 의미합니다. 즉, 패턴 처리 과정은 최소 결함으로 매우 정확합니다. FSI MERCURY 자산은 또한 선반 수명이 우수한 낮은 물 흡수를 특징으로하며, 노출 범위가 넓습니다. 이 모델은 또한 저항과 TKW (Thermo-Ketone Watersoluble) 레이어 사이의 선택성을 최적화하는 데 도움이 될 수있는 오존 (ozone) 및 플라즈마 처리 (plasma treatment) 를 포함한 여러 무료 프로세스에서 잘 작동합니다. 이 장비는 또한 안정성이 높으며, 최소한의 다운타임 (downtime) 을 기록합니다. 즉, 운영 프로세스는 일관되고 효율적입니다. 전반적으로, 머큐리 (MERCURY) 는 우수한 수준의 정확도와 해상도로 마이크로 (micro) 및 나노 스케일 (nanoscale) 패턴을 식각 할 수있는 고급 포토 esist 제품입니다. 이 시스템의 첨단 화학단위 (advanced chemical unit) 로 인해 에칭 (etching) 과정이 단축되었으며, 제품은 우수한 저장 속성과 최소한의 가동 중지 시간을 갖추고 있어 마이크로 일렉트로닉스 (microelectronics) 산업에서 사용하기에 적합합니다.
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