판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury #9073572

FSI MERCURY는 집적 회로 제조를 위해 사진 촬영 프로세스에 사용되는 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 초소형 부품의 생산 (예: 현재의 집적회로에서 발견) 에 사용되는 첨단 저항기술이다. Photolithography는 패턴 마스크를 반도체 물질로 옮기는 데 사용되는 프로세스입니다. 이 기술은 빛에 민감한 화학 물질을 사용하여 표면에 매우 작은 패턴을 만듭니다. MERCURY 포토 esist 시스템은 마이크로 일렉트로닉 장치 생산에 사용되는 가장 진보 된 저항 기술 중 하나입니다. FSI MERCURY 포토 esist 유닛은 두 가지 주요 재료로 구성됩니다. 광중합성 단량체 및 광소유체. 단량체가 사전 노출 단계를 거쳐 자외선 (UV light) 에 노출 될 때, 기질 표면에 광중합성 필름을 형성한다. 그런 다음 이 필름은 photolinker에 의해 연결되어 영구 이미지를 만듭니다. 광합성 단량체 (photorymerizable monomer) 는 광소린커와 교차 연결 할 수있는 화학 구조를 함유하며, 이는 기질 표면에 영구적 인 패턴을 생성한다. 광중합성 단량체가 광 분해기와 결합되고 기판 표면에 패턴이 형성되면, 머큐리 머신 (MERCURY machine) 은 가장 높은 레이어 대 레이어 균일성 (layer-to-layer unifority) 및 이미징 성능을 제공 할 수있다. 이 도구는 탁월한 정의를 만들어내며, 매우 작은 구조의 응용 프로그램에 적합한 뛰어난 해상도와 라인 충실도 (line fidelity) 를 제공합니다. FSI MERCURY 포토레지스트 (photoresist) 자산은 매우 낮은 열팽창 계수, 실제로 점도가 0이며, 가스율이 매우 낮은 등 매우 광범위한 이점을 제공합니다. 또한 높은 선반 수명과 빠른 노출 시간을 제공합니다. 게다가, 그것은 매우 높은 접착력과 투명성 수준을 제공하며, 크래킹 (cracking) 과 리프팅 (lifting) 에 저항하는 탁월한 능력을 가지고 있습니다. 이러한 모든 속성은 MERCURY photoresist 모델을 집적 회로 제조업체에 이상적인 선택으로 만듭니다. 결론적으로, FSI MERCURY 포토 esist 장비는 빠른 건조 시간, 낮은 열 팽창 계수, 뛰어난 이미징 정의, 높은 수준의 층 간 균일 성과 같은 다양한 보완 특성을 제공합니다. 이러한 모든 장점은 MERCURY 포토레스 (photoresist) 시스템을 고도의 저항 기술로, 집적 회로 생산을위한 필수 불가결한 도구로 만듭니다.