판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury OC #9281186

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury OC는 고급 포토 esist 장비입니다. 광전자 (Photoresist) 는 광도 민감성 물질로, 광전지에 의해 기판에 회로 패턴 (circuit pattern) 과 같은 피쳐를 생성하는 데 사용됩니다. FSI Mercury OC 시스템은 최신 광학 코로나 (corona) 기술을 사용하여 박막 레이어 (예: 마이크로 일렉트로닉스 제작에 사용되는 것) 패턴에서 뛰어난 해상도를 제공합니다. TEL Mercury OC 장치는 주 장치, 사전 사이핑 장치 및 노출 헤드의 3 가지 모듈로 구성됩니다. 주 유닛은 최대 900mm 크기의 기판을 처리 할 수있는 3 축 이동 가능한 스테이지입니다. 이 장치는 고급 디자인과 3 개의 고정밀 서보 모터 시스템 (HP) 을 포함하는 덕분에 정확한 위치 정확성과 반복성을 제공합니다. 사전 사이핑 장치는 포토 esist 준비에 사용되는 전용 기계입니다. 빛에 민감한 재료의 두께를 정확하게 측정하고 노출 프로세스 (exposure process) 에 대한 최적 매개변수 (optimal parameters) 를 설정할 수 있습니다. 이 장치는 정확하고 반복 가능한 처리율로 사용하도록 설계되었으며, 웨이퍼 (Wafer), 평면 패널 (Flat Panel) 등 다양한 기판을 처리할 수 있습니다. 노출 헤드는 2 개의 고해상도 렌즈와 UV 레이저를 갖춘 광학 도구입니다. 이 단위는 다양한 두께와 종횡비의 photoresist 레이어를 정확하게 패턴화할 수 있습니다. 또한 대형 웨이퍼와 평면 패널의 고해상도 (high-resolution) 및 고해상도 (high-throughput) 처리에 사용할 수 있습니다. TOKYO ELECTRON Mercury OC photoresist 자산은 박막 레이어를 패턴화할 때 뛰어난 해상도와 품질을 제공합니다. 이 모델은 피쳐를 정확하게 등록할 수 있으며, 다양한 포토리스 (photoresist) 및 기판을 지원합니다. 또한, 고급 옵티컬 코로나 (optical corona) 기술은 대형 웨이퍼와 평면 패널을 처리 할 때 향상된 속도와 처리량을 제공합니다. 정확하고, 안정적이며, 반복 가능한 성능 덕분에 Mercury OC photoresist 장비는 첨단 전자 제품 및 관련 부품 제조에서 선호되는 선택입니다.