판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9281725

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ID: 9281725
Spray cleaning systems PFA Turntable, 8" (2) Booster pumps Dual exhaust rinse box IR Chemical heater (5) Chemical tanks (2) Chemical consoles Chemicals used: HF, H2O2, HCl, HNO3, H2SO4 Helios DI-heater: 52kW.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Mercury MP는 반도체 제작 프로세스의 해상도, 속도 및 성능을 크게 향상시키는 고급 설계를 갖춘 포토 esist 장비입니다. 이 시스템에는 직경이 최대 200mm 인 웨이퍼 (wafer) 에 포토레지스트 (photoresist) 를 직접 이미징할 수 있도록 고급 스캐닝 장치가 장착되어 있습니다. 또한 기판에 포토 리스트 (photoresist) 의 정확한 배치 및 제거를위한 고정밀 로봇 암을 포함합니다. 이 기계 에는 "웨이퍼 '의 정밀 한 위치 와 조절 을 위한 전동식" 스테이지' 와 진동 격리 도구 가 갖추어져 있다. 이 자산은 엄격한 프로세스 제어 및 정확한 기판 위치를 통해 정확한 결과를 제공하도록 설계되었습니다. 이 제품은 이미징 및 조명 장비에 고해상도 (high-resolving) 디지털 광학 모델을 사용하여 포토레시스트의 정확한 이미징을 가능하게 합니다. 이 디지털 광학 시스템은 또한 정확한 제작 프로세스에 대해 정확하고 반복 가능한 노출을 제공합니다. 이 장치는 자동 로더 머신 (auto loader machine) 을 사용하여 기판에 연속적이고 정확한 photoresist 로딩을 보장합니다. 이 도구는 또한 고유 한 램프 (lamp) 와 헤드 (head) 를 통합하여 기판에 균질한 패턴을 생성하고 정확한 포토 esist 적용을 보장합니다. 정확하고, 반복 가능한 노출 및 정확한 포토 esist 로딩 프로세스를 통해 다양한 웨이퍼에서 빠르고 정확한 기능을 사용할 수 있습니다. 이 자산은 또한 안전하고 안전한 리소그래피 프로세스를 보장하는 고급 안전 기능 (예: 격리 시스템, 방사선 흡수 장치) 을 갖추고 있습니다. 이 모델은 강력한 '전용' 드라이브 장비로 구동되며, 제조 과정에서 정확한 위치와 속도 제어를 보장합니다. 포토리스 (photoresist) 의 정확하고 반복 가능한 처리를 가능하게 하는 다양한 제어 및 진단 도구가 장착되어 있습니다. 이 시스템은 매개변수와 데이터 통합을 위한 다양한 제어 시스템 (control system for parameters and data integration) 을 갖추고 있어 프로세스를 정확하고 반복적으로 제어할 수 있습니다. 전반적으로 FSI Mercury MP 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 생산성, 정밀성 및 프로세스 제어가 향상된 강력하고 안정적인 기계입니다. 이 툴은 탁월한 성능을 제공하며, 반도체 제작 프로세스에 적합한 탁월한 선택입니다. 안전하고 정확한 제작 프로세스를 위해 다양한 기능과 안전 (Safety) 기능이 장착되어 있습니다.
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