판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #9102507

FSI MERCURY MP는 반도체 제조업체가 집적 회로 생산에 사용하는 선도적 인 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 광물질 (Photoresist) 은 반도체 기판에 적용되는 불투명 한 물질로, 기판에 들어가는 이온 및 기타 입자의 양을 막거나 줄이기 위해 보호 코팅으로 작용합니다. 자외선 의 광선 을 광전물질 에 적용 시키면, 광전물질 에 들어 있는 분자 들 에서 화학적 변화 가 일어나, 그 "에너지 '를 불안정 하게 하고 기질 에서 쉽게 제거 한다. 이 과정을 포토 리토 그래피 (photolithography) 라고하며 집적 회로 생산에 사용됩니다. 광전도 (Photolithography) 는 회로의 패턴이 반도체 기판으로 전달되는 반도체 제조 공정의 한 단계입니다. 이러 한 과정 에는 보통, 빛 에 민감 한 용액 을 적용 한 다음, 자외선 에 노출 시킨다. MERCURY MP는 photolithography 프로세스에 사용하기위한 고효율의 사진 주의자 시스템입니다. 이 장치에는 강력한 전자광 (electro-optic) 모듈이 포함되어 있어 10,000시간 이상의 긴 수명을 가진 높은 UV 전원 및 높은 UV 노출 영역을 제공합니다. 고급 스테퍼 제어 모듈은 또한 높은 정확도와 빠른 응답 시간을 제공합니다. FSI MERCURY MP 포토레지스트 머신 (photoresist machine) 은 대용량 기능 영역으로 고정밀 패턴을 생성하며, 고품질 IC 생산에서 높은 열 안정성을 위해 향상된 트랩핑 및 탈트랩 기능을 제공합니다. MERCURY MP에는 이미징 및 에치 공정 수율을 개선하기위한 특수 포토 esist 제형도 포함되어 있습니다. 또한, 고급 스테퍼 제어 모듈을 사용하여 포토 esist의 정확한 정렬 및 위치를 지정할 수 있습니다. 전반적으로, FSI MERCURY MP는 열 안정성, 정밀한 패턴 및 개선 된 공정 수율을 제공하는 효율적인 photoresist 도구입니다. 고급 전기 광학 모듈은 최고 품질의 IC를 보장합니다. 스테퍼 제어 모듈은 포토 리토 그래피 (photolithography) 프로세스의 정확도를 높이는 반면, 포토 esist 제제는 이미징 및 에치 (etch) 프로세스를 개선하는 데 도움이됩니다. 이러한 모든 기능을 통해 MERCURY MP는 반도체 제조업체를위한 이상적인 포토 esist 자산이 됩니다.