판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Mercury MP #293622268

FSI MERCURY MP 포토 esist 장비는 FSI (Ferro-Software Instruments) 에서 생산 한 생산 규모의 기계입니다. 이 시스템은 나노 미터 (nanometer) 수준에서 매우 엄격한 공차를 가진 매우 정밀한 기하학적 구조를 제조하도록 설계되었습니다. 원하는 응용 프로그램에 따라 크기가 5nm ~ 150m에 이르는 기능을 생성 할 수 있습니다. 기계는 표준 저항 처리 챔버 (standard resist processing chamber) 와 함께 제공되며, 이를 통해 저항은 포토 esist에 노출되기 전에 원하는 패턴으로 스핀 코팅됩니다. 저항 노출 챔버에는 2 개의 레이저 다이오드 어레이 (laser diode array) 와 이동 가능한 조리개 (movable aperture) 가 장착되어 가변 조리개 노출 장치를 사용하여 저항을 정확하게 노출 할 수 있습니다. 노출 과정은 노출 된 저항이 균일 함을 보장하여 일관된 결과를 제공합니다. 노출 후, 저항은 기계의 치료실에서 치료됩니다. ··· 치료 과정 은 저항 이 기질 에 대한 구조적 충절 과 접착 을 유지 하도록 하는 데 필수적 이다. 머큐리 MP 머신 (MERCURY MP machine) 은 치료 프로세스를위한 통합 전용 난방 장치를 사용하여 저항군 전체에 균일 한 노출을 보장합니다. 이 장치에는 자동 저항 제거 및 린스 스테이션도 있습니다. 노출 된 저항을 제거 한 후, 저항은 탈이온화 된 물과 저항성 리모버 (resist remover) 의 조합으로 린스되어 기판에 깨끗하고 잔류 성 표면이 없도록 보장된다. 자동 린스 스테이션 (Rinse Station) 에는 잔류 화학 물질을 추출하는 인라인 진공 도구도 있습니다. 마지막으로, FSI MERCURY MP에는 패턴 된 기판을 시각적으로 검사 할 수있는 표준 주사 전자 현미경 (SEM) 이 제공됩니다. 이 추가 도구 (Additional Tool) 는 공정의 다음 단계를 수행하기 전에 결함이 없도록 기판의 품질 (Quality) 을 평가하는 데 유용합니다. 전반적으로, MERCURY MP는 나노 미터 수준에서 매우 정밀한 기하학적 구조를 생성 할 수있는 매우 정밀한, 생산 규모의 photoresist 자산입니다. 공차 (tight tolerance) 를 유지하여 최소한의 결함으로 일관된 결과를 낳도록 설계되었습니다.