판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K150 #293624501

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K150 Photoresist Equipment는 반도체 생산에서 고정밀 사진 석판 처리를 위해 설계된 자동 장치입니다. 그것 은 "쿼츠 '," 실리콘' 및 "폴리이마이드 '와 같은 매우 다양 한 재료 로 초미세 한" 디테일' 속 에 여러 층 의 얇은 기질 을 물리적 으로 무늬 로 만드는 데 사용 된다. 이 시스템은 4 개의 광 단계, 정밀 스캔 단계 및 고출력 레이저 장치를 사용하여 정확한 기능을 정확하고 정확하게 패턴화합니다. 첫 번째 광학 단계에는 정확한 모니터링 및 측정을위한 Canon 20x 현미경과 5 카메라 포토 카드 머신이 장착되어 있습니다. 이 단계에서는 모든 이미징 구성 요소에 대한 정렬 검사도 제공합니다. "로봇 '암 에 장착 된 두 번째 광학" 스테이지' 에는 무늬 거울 과 함께 "줌 렌즈 '가 들어 있어서 정확 한 영상 을 한다. 긴 초점 거리 의 객관적 "렌즈 '가 제 3 광학" 스테이지' 에 장착 되어 기판 을 확대 하여 가장 작은 "디테일 '까지도 기록 할 수 있다. 마지막으로, 4 번째 광 스테이지에는 고출력 UV 광원, 기판을 지원하는 캐스트 베이스 플레이트, 다양한 포지셔너 및 액츄에이터가 레이저 빔을 정확하게 지시합니다. FSI K150 Photoresist Asset의 제어 도구는 자동 이미징 프로세스를 담당하며, 고급 검사 및 측정을위한 내장 멀티미디어 하위 모델 및 고급 센서 (Advanced Sensor) 를 포함합니다. 이 장비는 다양한 통신 (Communication) 프로토콜과 함께 작동하여 외부 장비와의 통합을 용이하게 합니다. 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스를 통해 사용자는 시스템을 구성하고, 매개변수와 사양을 설정하고, 장치의 성능을 모니터링할 수 있습니다. TEL K150 Photoresist Machine에는 자체 진단 루틴 (Self Diagnostic Routine) 이 포함되어 있어 모든 오작동을 감지하고 보고할 수 있으며 필요에 따라 즉시 수정 조치를 수행할 수 있습니다. 이 도구는 0.1 ~ 1 미크론 크기의 피쳐를 패턴화할 수 있으며, 정확도는 +/- 5 nm, 해상도는 1-10 nm입니다. 고급 구성 요소 및 메커니즘은 장기적인 내구성과 일관된 운영을 보장합니다. K150 포토레시스트 자산 (Photoresist Asset) 의 고품질 이미징 도구, 정확하고 제어된 프로세스, 뛰어난 자동화를 통해 고급적이고 까다로운 포토레시스트 작업에 이상적인 솔루션이 됩니다.