판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON K100 #9099908

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100은 FSI, Ltd.에서 개발 한 포토 esist 장비로, 고급 노출 및 이미징 기술을 사용하여 광범위한 정밀 사진 분석 프로세스를 수행합니다. 이 시스템은 고급 3D 상호 연결, microelectromchanical system (MEMS), 사진 이미징 및 기타 고정밀 작업을 포함한 IC 제조 응용 프로그램에 사용하도록 설계되었습니다. FSI K100 장치는 3 가지 주요 구성 요소 (노출 기계, 노출 컨트롤러 및 이미징 도구) 로 구성됩니다. 노출 자산은 기판의 특정 영역에 정확한 양의 초 미세 노출 방사선 (super-fine exposure radiation) 을 전달하는 데 사용됩니다. 마이크로미터 조작기 (micrometer manipulator) 에 장착된 노출 모델은 노출 매개변수를 매우 정확하고 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 노출 장비에는 기판 모양에 맞게 조정 가능한 큰 FOV (Field of View) 가 포함되어 있어 매우 정확한 이미지 등록이 가능합니다. 노출 컨트롤러 (Exposure Controller) 는 노출 프로세스를 제어하는 데 사용되는 일련의 고급 이미지 처리 알고리즘으로 구성됩니다. 이러한 알고리즘은 최소한의 와트 사용량으로 고품질 (High Quality) 결과를 얻기 위해 노출 설정을 최적화하도록 설계되었습니다. 또한, 노출 컨트롤러 (Exposure Controller) 는 이미징 시스템과 함께 작동하여 정확성과 빠른 처리량을 보장하도록 설계되었습니다. 이미징 장치는 픽셀 응답 시간 (나노초) 이 있는 초고해상도 이미지를 감지하도록 설계되었습니다. 따라서 최소 이미지 왜곡으로 매우 훌륭한 기능을 감지할 수 있습니다. 또한, 이미징 머신에는 클린 이미징 (clean imaging) 방법이 포함되어 있습니다. TEL K100의 포토 esist 도구는 매우 정확하고 재생 가능한 리소그래피 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 여기에는 고해상도 (High Resolution) 이미지를 효율적이고 경제적인 제조에 필요한 속도로 생성하는 이미지의 정렬 및 이미저 (Imager) 처리가 포함됩니다. 또한, K100 자산은 폴리 이미 드 (polyimide), 실리콘 (silicon), 유리 (glass) 등 다양한 기판으로 작업할 수 있으며, 다양한 응용 분야에 매우 다양하고 적합합니다. 전반적으로, TOKYO ELECTRON K100 포토레지스트 모델은 리소그래피 (lithography) 를위한 매우 고급 장비이며, 고급 부품은 노출 매개변수를 정확하고 정확하게 제어하고 에너지 사용을 최소화합니다. 이 시스템은 IC 제조 (IC Manufacturing) 응용 프로그램에 잘 사용되고 있으며, 고급 이미징 장치를 통해 최소 이미지 왜곡의 초고해상도 이미지를 감지할 수 있습니다. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON K100 포토 esist 머신은 우수한 결과를 제공하며 다양한 유형의 기판 재료에 적합합니다.