판매용 중고 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON 918331-002 #293665158

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON 918331-002는 고정밀 대기 처리를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템의 플라즈마 기반 기술은 오염을 피하면서 최적의 수준의 청소를 달성합니다. 이 photoresist 단위는 photoresist 및 기타 관련 재료를 효율적으로 제거할 수있는 고급 RIE (Reactive Ion Etching) 를 수행 할 수 있습니다. 단순한 운영 체제는 사용자 친화적이며, 운영 매개변수를 손쉽게 모니터링할 수 있습니다. 고급형 설계를 통해 재료의 물리적 특성 (예: 너비, 두께 균일성, 종횡비 제어) 을 정확하게 제어하는 균일 한 에칭 (etching) 이 생성됩니다. 또한 가변 압력 범위와 개선 된 진공 환경을 제공합니다. 챔버 내부에서 압력은 2 개의 대기 수준으로 내려갑니다. 고주파 RF 발전기를 통해 전기 에너지를 챔버로 전송 할 수 있습니다. 이 기술은 아르곤 또는 플라즈마 합성을 위해 질소와 같은 비활성 가스와 호환됩니다. 고급 파동 관리 제어 (Advanced Wave Management Control) 는 안정적인 플라즈마에 필요한 전원을 제공합니다. 포토 esist 도구는 최대 2 개의 웨이퍼로 작동 할 수 있으며, 지속적으로 균일 한 에칭이 가능합니다. 에칭 과정은 정확하고 균일합니다. 저전력에서 고전압 사이클까지 작동하여 다른 에칭 효과를 얻을 수 있습니다. 전압에 대한 높은 제어 정도는 에칭이 최소 분산 (minimal variance) 으로 수행되도록 보장합니다. 자산의 설계는 효율성이 높으며 운영자를 돕기 위해 완벽한 모니터링 (monitoring) 기능을 제공합니다. 가변 압력 범위 (variable pressure range) 는 필요에 따라 압력을 줄이고, 다른 에칭 요구사항에 필요할 때 증가시키는 더 많은 유연성을 제공합니다. 이 모델에는 유지보수를 최적화하고 더 나은 성능을 제공하는 모션 컨트롤 (motion control) 메커니즘도 장착되어 있습니다. FSI 918331-002 포토 esist 장비의 독특한 디자인은 다양한 고급 에칭 프로세스에 이상적인 선택입니다. 탁월한 성능, 효율성, 사용자 친화적인 시스템 덕분에 다양한 에칭 (etching) 요구 사항을 충족할 수 있는 이상적인 솔루션이 되었습니다.