판매용 중고 FSI MERCURY MP #9181949

FSI MERCURY MP는 반도체 생태계에 사용되는 포토 esist 장비입니다. 포토 esist 시스템은 고급 프로세스를 사용하여 마이크로 칩에 원하는 기능을 만듭니다. 이 장치는 집적 회로, MEMS 및 기타 반도체 장치의 생산에 널리 사용됩니다. MERCURY MP photoresist machine은 액체 광활성 폴리머를 사용하여 반도체 장치의 특정 부분을 전기적으로 분리합니다. 광활성 화합물은 노출 된 부분을 균일하게 노출시키는 조명 패턴 (light pattern) 에 노출된다. 이 노출은 부품 사이에 원하는 전기 격리 패턴을 만듭니다. photoresist의 적용은 웨이퍼 매핑 프로세스를 통해 수행됩니다. 이 프로세스에는 각 피쳐의 위치를 결정하는 웨이퍼 맵이 포함됩니다. 그런 다음 포토레시스트가 웨이퍼 서피스에 적용되고 피쳐가 생성됩니다. 이 과정은 현대 반도체 장치의 생산에 필수적입니다. 피쳐가 생성되면, 포토레지스트 (photoresist) 도구는 또한 장치의 표면에 특정 특성을 생성할 수 있습니다. 이들 중 일부에는 내부 저항, 격리 층 생성 및 기타 제조 기술이 포함됩니다. 이러한 기술은 디바이스의 효율성과 성능을 높이는 데 도움이 됩니다. 기능 및 특성 외에도 FSI MERCURY MP photoresist 에셋을 사용하여 에칭 마스크를 만들 수도 있습니다. 에칭 마스크는 제조 과정에서 원치 않는 에칭이 발생하지 않도록 합니다. MERCURY MP 모델은 반도체 생태계를 위해 비용 효율적이고 신뢰할 수있는 포토 esist 솔루션을 제공합니다. 더욱이, 장비에는 외부 전원이 필요하지 않기 때문에, 다른 포토리스 (photoresist) 시스템과 비교할 때 에너지 효율적이고 비용 효율적입니다. 이 시스템은 또한 고품질 (High Quality) 마감을 제공하는데, 이는 반도체 업계에서 가장 인기있는 솔루션 중 하나였던 이유입니다.