판매용 중고 FSI EXCALIBUR #293759461

FSI EXCALIBUR은 고성능 집적 회로를 생산하기 위해 설계된 포토리스 (photoresist) 장비입니다. 이 시스템은 뛰어난 마이크로 해상도, 제어 및 일관성을 자랑합니다. 박막 코팅, 사진 촬영, 해상도, 노출 능력을 제어할 수 있는 정교한 소프트웨어가 포함되어 있습니다. 이 장치는 고해상도, 소형, 고효율 회로의 생산이 가능하기 때문에 독보적인 성능의 집적회로 (integrated circuit) 의 생산에 이상적입니다. EXCALIBUR는 스프레이 코팅 방법으로 알려진 사진 분석 프로세스를 사용합니다. 이 과정 은 박막 층 을 기판 으로 옮기는 데 사용 되는데, 이 층 은 박막 층, 반향성 코팅 (antireflective coating), 양광사 (positive photoresist) 로 구성 되어 있다. 이 박막 층 은 "실리카 ', 이산화" 티타늄' 및 유기물 의 혼합물 로 구성 되어 있는데, 이것 은 광학 투명 한 기질 에 안정 된 코팅 을 만든다. 반전 코팅은 박막 (Thin Film) 을 최적화하고, 고해상도 이미징에 적합하며, 오염 또는 환경 효과로부터 보호합니다. 마지막 층 은 사진사 이며, 이것 은 박막 층 의 "마스크" 역할 을 한다. 이 포토 esist는 리소그래피 프로세스에 사용되는 자외선 (UV light) 으로부터 박막을 보호합니다. 이미징 프로세스는 프로젝터에서 635nm 또는 355nm 레이저를 사용하여 시작됩니다. 이 "레이저 '는 박막 층 에 노출 되어야 할 형상 들 을 투영 한다. 그런 다음, 그 형상 들 은 빛 에 노출 되어, 광사진가 와 반응 을 나타내기 시작 한다. 더 발전하면, 포토 esist의 노출되지 않은 영역은 투명해지고, 노출 된 저항은 불투명 해집니다. 이것을 긍정적 인 저항 개발이라고합니다. 다음 단계 는 "에칭 '과정 인데, 그곳 에서 원하는" 패턴' 을 기판 에 에칭 한다. 여기 에는 기질 을 "다이빙 '하고, 에치 마스크 를 적용 하고, 화학 목욕 에 담그는 것 이 포함 된다. 이 식각 과정 은 정밀도 와 정확성 이 요구 되는데, 그 이유 는 광물질 이 "레이저 '노출 에 의해 감소 되었기 때문 이다. 에칭 후, 에찬트에 노출되어 박막 층을 제거해야합니다. 이것 은 "애싱 '(ashing) 혹은" 박막' 층 을 태우는 과정 을 통해 이루어진다. 애싱 프로세스는 소프트웨어 제어 오븐으로 수행됩니다. 이 "오븐 '은 온도 가 정해져 박막" 가스' 를 만든다. "박막 '층 이 더 이상 기판 에 보이지 않을 때" 애싱' 과정 이 완료 된다. 마지막으로, 나머지 photoresist를 기질에서 제거하기위한 청소 프로세스가 수행됩니다. 이것 은 일반적 으로 "알칼리 '용액 을 사용 하거나 화학적· 기계적 청소 기법 을 혼합 하는 것 과 관련 이 있다. 기판 을 청소 하고 말린 후, 집적 "회로 '는 최종 검사 를 할 준비 가 되어 있다. FSI EXCALIBUR은 독점 성능 집적 회로 생산에 이상적인 기계입니다. 정확하고 일관된 포토 리토 그래피 (photolithography) 프로세스를 통해 칩의 형상의 높은 해상도를 보장합니다. 엑스칼리버 (EXCALIBUR) 는 반반발적 코팅, 광소시스트 (photoresist), 애싱 (ashing) 및 클리닝 프로세스와 결합하여 고성능 집적 회로 생산에 적합한 솔루션입니다.