판매용 중고 EVG / EV GROUP 150 #9289394

EVG/EV GROUP 150은 웨이퍼 스케일 제작을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 모듈은 각각 고유의 목적을 가진 일련의 다른 모듈로 구성됩니다. 시스템의 주요 구성 요소에는 웨이퍼 스테이션, 핫 플레이트, 광원, 제어 스테이션, 환경 챔버 등이 있습니다. 웨이퍼 스테이션 (Wafer Station) 은 웨이퍼의 로드 및 언로드, 정렬 및 청소 절차를 허용합니다. 핫 플레이트 (hot plate) 는 노출 과정 전에 기판을 가열하는 데 사용되며, 광원은 웨이퍼 (wafer) 에 원하는 패턴을 생성하는 데 사용됩니다. 사용자는 Control Station 을 통해 패턴 크기, 모양, 노출 시간 등의 매개 변수를 조정하고 프로세스를 모니터링할 수 있습니다. 마지막으로, 환경 챔버 (Environmental Chamber) 는 전체 노출 과정에 대한 통제 환경을 유지하는 데 사용됩니다. photoresist 단위는 1 미크론의 해상도로 최대 12 인치 기판을 달성 할 수 있습니다. 이 기계는 어닐링 (annealing), 차등 에칭 (differential etching) 및 웨이퍼 얇아짐 (wafer thinning) 과 같은 다양한 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 또한 싱글 샷, 스테퍼, 매트릭스와 같은 다양한 노출 기술을 갖추고 있습니다. evanescent lumination 기능은 최대 0.2 미크론의 해상도로 3 차원 디자인을 생산할 수 있습니다. 이 도구는 사용자 친화적이며, 리모콘으로 작동할 수 있습니다. 또한 화면이 내장되어 있어 프로세스를 쉽게 모니터링할 수 있습니다. 자산에는 자동화된 감시 (surveillance) 및 경고 모델 (warning model) 이 있어 프로세스 중 문제를 보고합니다. 결론적으로, EVG 150은 신뢰할 수 있고 사용자 친화적 인 포토리스 (photoresist) 장비로 웨이퍼 스케일 제작에 적합합니다. 해상도는 1 미크론이며 다양한 노출 기술로 최대 12 인치 기판을 제조 할 수 있습니다. 또한 자동화된 감시 (surveillance) 및 경고 (warning) 시스템을 통해 프로세스를 손쉽게 운영 및 모니터링할 수 있습니다.