판매용 중고 EVG / EV GROUP 150 #293606734

EVG/EV GROUP 150은 반도체 산업에서 웨이퍼에 포토 esist 레이어를 입금하는 데 사용되는 포토 esist 장비입니다. 서열 제어 (sequence-controlled) 프로세스 기반의 독점 기술을 활용하여 뛰어난 균일성과 정밀성을 가진 복잡한 저항 구조를 만듭니다. photoresist 시스템은 웨이퍼 홀더, 제어 모듈, 조명 모듈, phototool 및 photoresist 모듈의 5 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 파퍼 홀더는 포토 esist를 적용 할 때 기판을 고정시키는 데 사용됩니다. 정밀 가공 홀더 (precision machined holder) 는 프로세스 동안 미끄러지지 않고 기판을 안정적으로 유지하도록 설계되었습니다. 제어 모듈은 장치의 두뇌입니다. 전체 photoresist 시퀀스를 제어하며 UI (사용자 인터페이스) 를 통해 프로그래밍됩니다. 레지스트 매개변수 및 기타 프로세스 단계를 모니터링하여 일관된 패턴 정밀도를 유지합니다. 조명 모듈은 고출력 광원으로, 기판에 포토 esist 레이어를 노출시키는 데 사용됩니다. 포토리스 (photoresist) 머신에 통합되어 프로그래밍 가능하고 정확하며 균일 한 광도 및 파장 범위를 제공합니다. 포토 툴 (Phototool) 은 포토 esist 프로세스 동안 웨이퍼를 이동 및 제어하고 프로세스 단계 사이에 웨이퍼를 이동시키는 데 사용되는 진공 로봇 암 (vacuum robotic arm) 입니다. photoresist 모듈은 photoresist를 기판에 적용하며 photoresist 도구의 핵심 구성 요소입니다. 광전자 (photoresist) 의 정확하고 균일 한 응용은 프로세스의 가장 중요한 측면이며 제어 모듈 (control module) 을 통해 제어됩니다. EVG 150 Photoresist Asset은 반도체 산업에 광범위하게 사용되어 패턴 정확도, 반복 가능성 및 접착력이 뛰어난 정확하고 균일 한 저항 구조를 만듭니다. 이 모델은 정확한 피쳐 크기 제어 및 균일성을 갖춘 복잡한 복잡한 photoresist 레이어를 생성 할 수 있습니다. 또한, 이 장비는 높은 수준의 정확도, 효율성, 반복성을 제공하여 생산량 및 제품 품질을 향상시킵니다.