판매용 중고 EVG / EV GROUP 120 #293830309

EVG/EV GROUP 120은 EVG의 포토 esist 장비로, 나노 스케일 장치의 웨이퍼 레벨 처리에 널리 사용됩니다. 고급 웨이퍼 레벨 패키징, 3D 통합, MEMS/MOEMS, 미세 유체, 포토 마스크 처리 및 기타 관련 응용 프로그램에 이상적입니다. EVG 120은 필드 크기가 180mm x 300mm 인 하향식 12 인치 웨이퍼 노출 시스템을 갖추고 있습니다. 최대 200mm 직경의 크롬 온 쿼츠 마스크를 처리 할 수 있습니다. 이 장치는 투영 광학, 배율, 이미징 방향의 위치를 제어하며, 최적의 유연성과 정확성을 제공합니다. 프로젝션 광학은 전송 속도가 > 85% 로 높으며, 명암비가 낮은 구조를 0.3 미크론까지 해결할 수 있습니다. 이 기계는 또한 고출력 (High-Power) 설정에서 노출과 관련된 열 스트레스에 강하고 초저속 (Outgassing) 이 매우 낮기 때문에 높은 처리량과 비용 효율적인 장치 구성 (Device Fabrication) 을 생산할 수 있습니다. 결과적으로, 제공되는 이미징 해상도 (Imaging Resolution) 와 처리량 (Throughput) 시간은 비슷한 시스템보다 훨씬 크므로 대용량 생산에 이상적입니다. 또한, 이 툴에는 안정적이고 사용자 친화적인 여러 기능이 내장되어 있습니다. 복잡한 제어 시스템 외에도, EV GROUP 120은 매우 민감한 센서를 사용하여 정확한 정렬 및 웨이퍼 반복 속도를 보장합니다. 에셋은 또한 모델 레벨 마스크 정렬 레이어를 사용하며, 이는 x 방향과 y 방향 모두에서 일관된 이미징을 보장하여 해결 불가능한 노출 오류를 제거합니다. 이 장비는 석영 마스크에 대해 최소 8 개의 이분법 비율을 유지하도록 설계되어, 서브 미크론 구조의 명확한 영상을 보장합니다. 그 외에도이 시스템은 CDA 프리 작업을 통해 청소실 친화적 인 작업을 수행합니다. 이것은 본질적으로 유해 화학 물질의 재순환의 필요성을 제거합니다. 120 개는 현재 EV 그룹 (EV GROUP) 에서 가장 신뢰할 수 있고 고급 포토레스 시스템 중 하나이며 웨이퍼 레벨 어플리케이션에 최대 해상도, 정확도, 처리량 및 비용 효율성을 제공합니다.