판매용 중고 EVG / EV GROUP 105 #9245282

EVG/EV GROUP 105는 반도체 마스크 제작, 웨이퍼 레벨 포장 및 기타 고급 리소그래피 응용 프로그램을위한 포토리스트 장비입니다. 이 시스템은 높은 정확도와 정밀 리소그래피 (lithography) 처리를 제공하지만, 강렬한 에너지원에 노출되어 섬세한 사망을 보호하도록 설계되었습니다. 고급 기능에는 강력한 이미징 성능을 위한 자동 초점 장치, 더 나은 정확성과 향상된 처리량을 위해 웨이퍼 이동을 줄이기 위해 특허를 획득한 노 터치 척 (No-touch chuck) 기술, 향상된 오버레이 및 정확도를 위한 통합 3 차원 마스크 정렬 스캐너 등이 있습니다. EVG 105 기계는 자외선 (UV) 노출, 포토 리토 그래피, 에칭 및 증착을 포함한 다양한 포토 esist 프로세스에 대해 구성 될 수 있습니다. KrF (248nm) 및 ArF (193nm) 소스와 같은 고출력 UV 레이저와 프로세스 정확도를 향상시키기 위해 고급 광학을 사용합니다. 이 도구에는 사진 이미지 해상도를 최대화하기위한 고해상도, 결함이 낮은 옵틱이 포함되어 있습니다. 이미지 선명도를 높이기 위해, 자산에는 포인트 스프레드 (Point-Spread) 기능 분석과 같은 정교한 이미지 해상도 확인 도구가 장착되어 있습니다. 다이 레벨 (die-level) 정렬을위한 모델의 고급, 고감도 패턴 인식 알고리즘은 또한 잘못된 정렬을 최소화하고 어려운 형태의 패턴 인식 결과를 개선 할 수 있습니다. 이 장비에는 최첨단 소프트웨어 (최첨단) 와 고급 자동화 기능이 추가되어 있어 처리 속도 향상, 처리량 향상, 수율 향상 등의 효과를 제공합니다. EV GROUP 105 는 Wafer 를 빠르고 정확하게 로드하고 언로드할 수 있고 안전한 스토리지 솔루션을 제공하는, 구성 기능이 뛰어난 통합 Wafer 처리 시스템을 갖추고 있습니다. 또한 범용 웨이퍼 (Wafer) 운송 트롤리 (Trolley) 를 포함하여 오버 헤드 비용을 줄이고 장치를 오가는 웨이퍼의 안전한 운송을 보장합니다. 이 기계에는 활성 공기 냉각 도구, 할로겐 램프, 활성 가스 냉각 자산 및 비상 정지 모델 (Cassavant) 을 포함한 여러 안전 기능이 있습니다. 이 모든 기능은 장비 (sample) 와 인력 (people) 의 적절한 작동과 최대한의 안전 (safety) 을 보장하도록 설계되었습니다. 결론적으로, 105 photoresist 시스템은 반도체 마스크 제작, 웨이퍼 레벨 포장 및 기타 고급 석판화 응용 프로그램을위한 강력하고, 고품질, 정확한 솔루션입니다. 고급 옵틱 (optics), 자동 초점 (autofocus), 통합 패턴 인식 알고리즘 등 강력한 기능을 제공하여 성능을 향상시킵니다. 또한, 다양한 안전 기능은 정밀 석판화 작업에 필요한 마음의 평화를 제공합니다.