판매용 중고 EVG / EV GROUP 101 #293657969

EVG/EV GROUP 101은 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 "시스템 '은 얇은" 필름' 을 "웨이퍼 '에 정확 하게 에칭 할 수 있도록 설계 되었다. 에칭은 photoresist 마스킹 프로세스를 사용하여 수행됩니다. 이 과정은 웨이퍼를 광원 패턴에 노출시켜 작동합니다. 광원 으로 인하여 광선 이 노출 되는 지역 에서는 광전자 "코우팅 '이 굳어지고, 다른 지역 에서는" 코우팅' 이 부드럽게 된다. 그런 다음, 이 부드러운 재질 을 쉽게 "에치 '하여" 웨이퍼' 에 무늬 를 만들 수 있다. EVG 101 포토 esist 유닛에는 여러 구성 요소가 포함되어 있습니다. 기계 는 광원 으로 시작 되는데, 광원 은 "웨이퍼 '에 빛 의 본 을 던지는 데 사용 된다. 이 광원은 레이저, 고강도 LED (Light Emitting Diode) 어레이 또는 정확한 조명 패턴을 제공 할 수있는 다른 장치가 될 수 있습니다. 그런 다음 "포토마스크 '를 사용 하여 광선 이" 웨이퍼' 의 특정 부위 에 닿는 것 을 선택적 으로 막는다. 이것은 에칭을 위한 패턴을 만듭니다. 이 과정 의 다음 단계 는 "웨이퍼 '에" 포토레지스트' 를 적용 하는 것 이다. 이 "포토레시스트 '는" 웨이퍼' 를 입혀 식각 과정 으로부터 보호 해 주는 얇은 물질 의 "필름 '이다. 그것 은 "마스크 '에 의해 차단 된 부면 에서 부드럽거나" 에치' 할 수 있는 반면, 빛 의 본 에 노출 된 부면 에서 굳어진다. 에칭 된 물질의 유형에 따라 다른 포토 esist를 사용할 수 있습니다. EV GROUP 101 광사 도구는 또한 광사 제에 대한 반응 스테이션을 포함한다. 이 방송국은 포토리스 연주자에게 통제 된 환경을 제공하도록 설계되었습니다. 진공 챔버, 온도 조절 자산 및 포토 esist를 활성화하는 UV 광원으로 구성됩니다. 이 모델에는 포토 마스크 (photomask) 를 만드는 데 사용되는 레이저 스테이션도 있습니다. 이 "레이저 '" 스테이션' 은 "마스크 '에 빛 의" 패턴' 을 투영 한 다음, 빛 에 노출 되는 부위 를 에칭 하여 작동 시킨다. photomask를 여러 번 사용하여 다른 웨이퍼에 동일한 패턴을 만들 수 있습니다. 101 포토 esist 장비의 마지막 구성 요소는 에치 스테이션입니다. 여기서 에칭 프로세스가 수행됩니다. 에칭 공정은 진공실과 화학 처리의 조합을 사용하여 수행됩니다. EVG/EV GROUP 101 포토 esist 시스템은 반도체 산업에 사용되는 웨이퍼에 대한 정확한 패턴을 만드는 데 필수적입니다. 이 장치를 사용하면 정확한 패턴 제어와 우수한 결과를 얻을 수 있습니다. 이 기계는 또한 사용하기 쉽고, 경험이 부족한 직원들도 운영 할 수 있습니다. 이러한 이유로, EVG 101 포토 esist 도구는 많은 반도체 제조업체들에게 계속 인기있는 선택입니다.