판매용 중고 ELS TECHNOLOGY ELS3604FA #293630295

ELS TECHNOLOGY의 ELS3604FA는 광전자 장치 제조를 위해 설계된 고급 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 리토 그래피 워크 스테이션 (lithography workstation), 마스크 정렬기 (mask aligner) 및 포토레스 장치 (photoresist unit) 로 구성되어 있습니다. 리토 그래피 워크 스테이션에는 고성능 스캐넘 (scanarm), 고정 이미징 구조 (fixed imaging structure) 및 독점적 인 공축 마이크로 렌즈 어레이 (micro-lens array) 가 포함되어 있습니다. 스캐닝 장치는 신속한 노출 주기를 보장하며 자동 초점 교정 기계를 갖추고 있습니다. 이 도구의 마스크 조정기는 뛰어난 화질을 제공하며 MOEM (Micro-Optical Electro-Mechanical) 및 MAEM (Micro-Optical Alignment Electro-Mechanical) 과 같은 기존 마스크 미디어와 고급 이미징 기술을 통해 높은 생산량을 제공합니다. 마스크 정렬기 (mask aligner) 는 마스크 및 기판을 매우 정밀하게 정렬할 수 있으며, 몇 나노미터 (nanometer) 까지 해상도에 맞게 조정할 수 있습니다. 에셋의 포토레스 장치 (photoresist unit) 는 광 조사를위한 활성 HeNe 레이저를 가지고 있으며, 200nm까지 고해상도 사진 해설을 가능하게하며 나노 미터 스케일에서 뛰어난 신뢰성과 반복 성을 제공합니다. 이 장치는 웨이퍼의 드라이 필름, 빠른 개발을위한 화학 및 열 감수기, CTO (세라믹-금속) 물개와의 호환성을 위해 고온 에친트 (etchant) 와 같은 다양한 포토 esist를 처리 할 수 있습니다. ELS3604FA 포토레지스트 (photoresist) 모델은 고성능 리소그래피 워크스테이션, 정밀한 마스크 정렬기, 신뢰할 수있는 포토레시스트 (photoresist) 장치를 하나의 완전한 유닛에 통합하여 광전자 장치 제조를 위한 매우 유능하고 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다. ELS TECHNOLOGY ELS3604FA는 고해상도 이미징, 뛰어난 안정성, 반복성, 다양한 저항처리 기능을 통해 사용자에게 포괄적인 생산 솔루션을 제공합니다.