판매용 중고 EIKO IB-3 #293793575

EIKO IB-3은 2 층 및 3 층 포토마스크 모두를 위해 설계된 차세대 포토레시스트 (photoresist) 장비이며, 전용 고급 기술을 활용하여 매우 정밀한 정렬과 고감도 노출 성능을 보장합니다. 이 시스템은 1 미크론 정확도와 0.55nm 해상도의 고해상도 스캔 헤드를 사용하여 단일, 2 층 및 3 중 레이어 포토 마스크 모두를 생성 할 수 있습니다. 또한 선 너비, 균일성, 접촉 구멍 (contact holes) 과 같은 photomask 매개변수를 빠르게 측정할 수 있는 고속 마스크 프로세서가 장착되어 있습니다. 또한, 박막 에치 모듈을 사용하면 노출 및 에칭을 위해 양성 저항성 물질을 고정밀도로 제거 할 수 있습니다. 정확성 측면에서, IB-3은 0.2-0.3 미크론의 작은 선 너비를 안정적으로 생성 할 수 있으며, 통합 된 실시간 노출 안정성은 ± 100nm/5s입니다. 광선 (beam panel) 을 이용해 노출시간을 줄이면서 광선 (light beam) 의 모양을 조절할 수 있어 정확도가 높은 선을 만드는 능력이 더욱 향상된다. 이 장치의 자동 정렬 머신 (automated alignment machine) 은 0.1 미크론 정확도로 매우 정밀한 정렬 측정을 허용하는 반면, 고감도 포토 esist는 여러 레이어로 복잡한 레이아웃을 안정적으로 생성 할 수 있습니다. 마지막으로, EIKO IB-3은 "제로 (zero)" 결함 비율을 갖춘 신뢰성이 높으며, 까다로운 석판화 프로세스에 이상적인 선택이 가능하도록 독립형 기능으로 설계되었습니다. 강력하지만 사용하기 쉬운 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 는 리소그래피 프로세스의 모든 단계를 지원하며, 통합 추적 기능은 데이터 정확성을 보장합니다. 또한 고급 유지 보수 서비스 설계 (Advanced Maintenance Service Design) 를 통해 유지 보수 및 수리 작업을 손쉽게 수행할 수 있어 대용량 운영 환경에서 안정적인 성능을 보장합니다.