판매용 중고 EATON / LSI 6000 & 6000XL #29581

EATON/LSI 6000 & 6000XL 포토 esist 시스템은 Image Sensors, Memory Chips 및 Microprocessor와 같은 반도체 생산을 위해 특별히 설계된 산업 시스템입니다. Photoresist 시스템은 빛을 사용하여 반도체의 구성 요소를 패턴화하는 것을 포함합니다. 6000XL은 원본 6000 장비의 업데이트 된 버전으로, 더 큰 프로세스 영역, 향상된 성능, 뛰어난 확장성을 제공합니다. LSI 6000 은 10x14 인치 의 넓은 공정 영역 (process area) 으로 설계되어 있어, 단일 포토레지스트 시스템에서 다양한 패턴을 만들 수 있습니다. 대상의 초기 노출은 DMA (Digital Mask Aligner) 에 의해 수행되며, DMA (Digital Mask Aligner) 는 대상 기판에 원하는 광원 패턴을 투영합니다. 이 장치는 FFS (Full Field Scanning) 기술을 특징으로하며, 이를 통해 기판을 보다 정확하게 패턴화할 수 있습니다. 또한 이 기술은 수동 DMA 정렬이 필요 없어서 정확성과 일관성을 보장합니다. 또한 EATON 6000은 PES (Post Exposure Smoothing) 에 사용될 수 있습니다. PES (Post Exposure Smoothing) 프로세스는 성능 향상을 위해 반도체 부품의 옆벽을 매끄럽게 만드는 프로세스입니다. 또한, 기계에는 AEV (Auto-Exposure Verification) 기능이 장착되어 있어 참조 표준에 대한 노출 판독값의 정확성을 자동으로 검사합니다. 이는 정확성과 프로세스 일관성을 보장하는 데 도움이 됩니다. 마지막으로 EATON/LSI 6000XL은 표준 6000에 비해 향상된 성능과 확장성을 제공합니다. 이 업그레이드 모델에는 더 큰 20x30 인치 프로세스 영역, 향상된 FFS 기술 및 향상된 사용자 인터페이스가 장착되어 있습니다. 게다가, 이 도구는 표준 노출 후 매끄럽게 하기 (post-exposure smoothing) 프로세스로 업그레이드할 수 있으며, 이에 따라 사용자가 설정을 사용자 정의할 수 있습니다. 결론적으로, LSI 6000 & 6000XL 포토 esist 시스템은 반도체 구성 요소의 생산 및 제작을 위해 특별히 설계되었습니다. 이러한 시스템은 기존 6000 모델에 비해 향상된 성능과 확장성을 제공하며 DMA, FFS, PES 등 다양한 기능을 제공합니다. 마지막으로, 업그레이드 된 모델은 AEV 를 통해 정확성과 프로세스 일관성을 향상시킵니다.