판매용 중고 EATON 6000 XL #9099870

EATON 6000 XL은 대용량 정밀 리소그래피 및 박막 증착 응용 프로그램을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 완전 자동화된 비용 효율적인 플랫폼으로, 집적 (integrated) 회로, 광전자 (optoelectronics), 데이터 스토리지 미디어와 같이 점점 더 복잡한 미세 구조를 생산할 수 있습니다. 이 시스템의 특허 된 포토 esist 기술은 자외선 (UV) 빛을 사용하여 감광 기질에 패턴을 노출시키고, 이어서 나노 스케일 구조를 만들기 위해 개발된다. 6000 XL은 정밀 석판화 (precision lithography) 및 박막 증착 기술 (thin-film deposition technology) 을 사용하는데, 이는 진공 단위를 통해 기판에 화학 성분으로 구성된 얇은 폴리머 층을 증착시키는 정밀한 과정입니다. 이 프로세스를 통해 사용자는 폴리머 레이어의 두께, 컴포지션, 지형을 정확하게 조작하고 나노 스케일 (nanoscale) 에 구조를 생성할 수 있습니다. 리소그래피 (lithography) 패턴의 품질은 처리량 (throughput) 과 노출 및 개발 프로세스의 정밀도에 의해 결정되었습니다. 기계에 사용 된 포토리스 스트 (photoresist) 재료와 그 층은 뛰어난 저항의 균일성, 예외적으로 낮은 가스 처리, 높은 해상도를 제공하도록 설계되었습니다. 이 도구의 고급 기능은 고성능 이미징 (Imaging) 자산으로, 고해상도 이미징을 가능하게 합니다. 또한, 이 모델의 특허 된 포토 esist 제제는 에폭시, 폴리 이마이드, BCB, 폴리 실리콘 및 기타 재료와 같은 다양한 코팅과 호환되도록 설계되었습니다. 장비로 달성 할 수있는 필름 두께는 최대 50nm ~ 1.2m 사이입니다. 이 시스템은 실리콘 (silicon), 인쇄 회로 기판, 심지어 직물 (textile) 과 같은 다양한 기판으로 작동하도록 설계되었습니다. 즉, 운용이 용이하며, 특별한 소프트웨어나 전문 기술 없이도 신속하게 설치, 최적화할 수 있습니다 (영문). 사용자는 노출 용량, 파장 및 노출 패턴을 쉽게 제어 할 수 있습니다. 또한, 기계는 또한 민감한 기판에 대한 양면 처리 및 지원 배치 처리를 수행 할 수 있습니다. 전반적으로 EATON 6000 XL은 산업 및 전자 제작 어플리케이션을 위한 강력하고 비용 효율적인 포토리스 (photoresist) 솔루션입니다. 이 도구는 사용자에게 다양한 기판에 매우 복잡한 나노 스케일 (nanoscale) 구조를 정확하고 정확하게 만들 수있는 기능을 제공합니다. 고급 이미징 에셋 및 포토 esist 소재는 고해상도, 균일성, 저출력 (low outgassing) 을 보장하도록 설계되었습니다.