판매용 중고 DNS / DAINIPPON SKW-80B #293796117

DNS/DAINIPPON SKW-80B는 고정밀 마이크로 구성 요소 및 기판을 생산하도록 설계된 고급 포토 esist 생산 시스템입니다. 고해상도, 저선 너비, 최소 저항성, 저시트 저항성을 가진 미크론 레벨 정밀도 포토 esist를 생성 할 수 있습니다. DNS SKW-80B는 코팅 프로세스, 개발 프로세스, 치료 프로세스 등을 포함하는 독특한 다단계 프로세스를 사용합니다. 코팅 공정의 경우, DAINIPPON SKW-80B에는 매우 정확한 저항 적용이 가능한 코터 헤드가 장착되어 있습니다. XDAS-RSPH 고정밀 코팅 (high-precision coating) 기술을 사용하면 정확한 두께에 포토레시스트를 적용하여 일관되고 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 코터 헤드 (coater head) 는 또한 수동 개입없이 여러 유형의 포토 esist 화학을 적용 할 수 있으며, 고정밀 결과를 위해 빠른 처리 시간을 허용합니다. SKW-80B의 개발 프로세스는 고도로 향상되었습니다. 저항 개발을 위해 고급 DATRON-HTF 기술을 사용합니다. 이 프로세스는 최소 에치 창, 로우 라인 너비, 최소 저항성 및 로우 시트 저항을 제공합니다. 이 기능의 조합은 뛰어난 정밀 생산 기능을 제공합니다. 또한 DNS/DAINIPPON SKW-80B 는 고급 스핀 플래시 냉각 (spin flash chilling) 기술을 활용하여 개발 과정에서 저항을 신속하게 냉각시켜 보다 정밀한 생산 요구 사항을 유지할 수 있습니다. 마지막으로, DNS SKW-80B는 포토 esist가 기판을 적절히 준수하도록 하는 치료 과정을 포함한다. 이 경화 과정은 고급 Ultraflux Vacuum Curing 기술을 사용하여 포토 esist의 경화 온도에 빠르게 도달 할 수 있습니다. 또한, 치료 과정은 매우 정확하고, 균일하며, 반복 가능한 경화 결과를 생성합니다. 전반적으로, 정확한 저항 응용 프로그램, 정밀한 에칭, 저선 너비, 최소 저항성 및 저판 저항의 조합으로 DAINIPPON SKW-80B는 정밀 포토 esist 생산을위한 업계 리더가되었습니다. 정밀한 다단계 프로세스를 통해 복잡한 마이크로 컴포넌트 및 기판을 사용해도 정밀도가 높은 결과를 얻을 수 있습니다. 이를 통해 고객은 안정성이 가장 정확한 구성요소를 생산할 수 있게 됩니다 (영문).