판매용 중고 DNS / DAINIPPON SK-80BW-AVPE #9192100

DNS/DAINIPPON SK-80BW-AVPE는 다양한 산업 응용 분야에 사용하도록 설계된 광역 이미징 포토 esist 장비입니다. Photoresist 기술은 사용자에게 두 가지 뚜렷한 이점을 제공합니다. 첫째 로, 광저항 층 (photoresist layer) 은 기본 기판 을 "제조 '공정 중 에 노출 될 수 있는 더 큰 손상 으로부터 보호 할 수 있다. 둘째, 이 기술이 지원하는 고해상도는 처리 중인 모든 기능에 대해 매우 정확하고 복잡한 세부 (details) 를 만듭니다. 이 시스템에는 두 가지 구성 요소, 레지스트 (resist) 섹션과 흡입/배기 (intake/exhaust) 섹션이 포함 된 모듈식 플랫폼 디자인이 있어 고품질 포토 esist 서비스를 제공합니다. 저항 섹션은 분말 및 액체 광사 물질을 저장하기위한 2 개의 큰 탱크로 구성됩니다. 이를 통해 빠르고 쉽게 설치할 수 있으며, 따라서 특정 산업 요구 사항에 맞게 프로세스 최적화 (process optimization) 를 수행할 수 있습니다. 저항 (resist) 섹션에는 원하는 표면에 저항액을 적용하고 처리된 재료 및 원하는 해상도에 따라 출력 볼륨을 제어하는 스프레이어 (sprayer) 도 포함됩니다. 흡입/배기 장치 (흡입/배기 장치) 섹션은 제조 과정에서 만들어진 유해한 화학 물질이나 증기가 안전한 방법으로 올바르게 관리되고 폐기되도록 합니다. 이 섹션에는 다양한 수준의 생산 속도 (production speed) 에 대처할 수 있을 뿐만 아니라 안전한 작동을 보장하는 복수의 흡입 및 배기 (exhaust) 포인트가 장착되어 있습니다. 더욱이, 설계 된 냉각 장치 는 감도 가 민감 한 물질 을 처리 할 수 있는데, 이 물질 은 특정 한 감광제 를 사용 할 때 특히 중요 하다. 또한 DNS SK-80BW-AVPE 는 프로세스의 다양한 단계에서 쉽게 관리할 수 있는 고급 소프트웨어 머신을 갖추고 있습니다. 즉, 사용자가 안전하게 통합되지 않은 상태에서 작업을 관리, 모니터링, 자동화할 수 있습니다. 최대 1,000 개의 레시피 (레시피) 를 저장할 수 있으므로 사용자가 빠르고 정확하게 작업 할 수 있습니다. 또한 다양한 추가 하드웨어 옵션 (예: 추가 탱크, 스프레이어) 을 추가하여 도구의 기능을 향상시킬 수 있습니다. 전반적으로 DAINIPPON SK 80BW AVPE 포토레지스트 (photoresist) 자산은 다양한 표면과 재료에 포토레시스트를 적용하는 안정적이고 효율적인 프로세스를 제공하도록 설계되었습니다. 모듈식 플랫폼 설정 (modular platform setup) 과 자동화된 소프트웨어 (automated software) 와 같은 고급 기능과 기능을 활용함으로써 사용자는 완성된 작업에 높은 정확성과 복잡한 세부 사항을 보장합니다. ··· 그 과정 중 에 만들어진 모든 화학 물질 과 독소 를 안전 하게, 그리고 정확 하게 처리 할 수 있게 해 주는 "안전 '기능 이 포함 되어 있다.