판매용 중고 DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVQ #9227389

DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVQ는 반도체 제조 산업의 고급 석판 공정을 위해 설계된 특수 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 포토 esist의 정밀 노출을 제공 할 수 있으며, 이는 VLSI (Very-Large-Scale-Integration) 칩 처리에서 더 높은 수율을 허용합니다. 이 장치는 두 가지 구성 요소, 즉 Exposure Unit과 Exposure Unit Controller로 구성됩니다. 노출 장치 (Exposure Unit) 는 균일 하고 단색 인 빛의 빔을 웨이퍼에 방출할 수있는 레이저 다이오드 어레이로 구성됩니다. 이 빛은 음향-광학 변조기 (acousto-optic modulator) 에 의해 변조되며, 이는 사용자가 더 높은 해상도의 이미징을 위해 빔을 형성하도록 제어합니다. 또한 위쪽 테이블, 측정 간섭계 및 초점 렌즈가 포함됩니다. 노출 장치 컨트롤러 (Exposure Unit Controller) 는 연산자 인터페이스 패널을 사용하여 노출 장치 (Exposure Unit) 를 제어하며, 노출 장치 (Exposure Unit) 의 매개변수를 관리하는 독립 프로세서가 포함된 내장 마이크로컴퓨터도 포함합니다. DNS SD W80A AVQ 기계는 몇 가지 고급 기능을 통해 photoresist 이미징 공정의 정확성과 재생성을 높입니다. 초점 감지 (focus detection), 모서리 패턴 인식 (edge pattern recognition) 알고리즘, 노이즈 감소 알고리즘 등 향상된 이미지 처리 기능을 위한 다양한 이미지 처리 도구 알고리즘이 포함되어 있습니다. 또한, 다양한 커스텀 필터 (custom filter) 와 마스크 (mask) 를 에셋과 함께 사용하여 포토레지스트의 성능을 최적화하기 위해 노출 패턴을 구체화할 수 있습니다. 이 모델에는 자동 초점 기능 (auto-focus function) 이 포함되어 있어 가능한 가장 선명한 이미징 해상도를 제공합니다. 이 기능을 사용하면 스캔 작업 중 노출 설정을 빠르고 정확하게 수정하여 해상도를 더욱 향상시킵니다 (영문). 또한, 장비는 고급 열 안정성 (thermal stability) 기술로 설계되었으며, 이는 레이저 다이오드 어레이가 노출 중 온도의 큰 변화를 겪지 않도록 보장합니다. 마지막으로, DAINIPPON SDW-80A-AVQ에는 광범위한 프로세스 제어 옵션이 있으며, 총 8 가지 매개 변수 설정이 있습니다. 이를 통해 사용자는 리소그래피 (lithography) 프로세스의 여러 측면을 유연하게 제어할 수 있으며, 이를 통해 이 시스템을 통해 광범위한 재료와 프로세스를 수행할 수 있습니다. 전반적으로 DNS SDW-80A-AVQ는 반도체 제조 공정을 위해 설계된 고급 포토 esist 장치입니다. 탁월한 이미징 정확도, 해상도, 최적 프로세스 제어를 위한 고급 기능을 제공합니다. 더 높은 해상도의 이미징 (Imaging), 향상된 이미지 처리 알고리즘 (Image Processing Algorithm) 및 다양한 프로세스 제어 설정을 위한 빔 (Beam) 패턴을 형성 할 수있는 능력으로, 포토리스트의 정밀 이미징을 찾는 사람들에게 이상적인 기계입니다.