판매용 중고 DNS / DAINIPPON SD-W80A-AVP #293760414

DNS/DAINIPPON SD-W80A-AVP는 고해상도 포토 esist 패턴화 작업을 처리 할 수있는 포토 esist 장비입니다. PEB (Exposure Bake), PEC (Post-Exposure Bake) 및 PEC (Post-Exposure Bake) 를 적용하여 패턴을 만들거나 정제하는 다기능 시스템입니다. DNS SDW-80A-AVP는 패터닝 프로세스에 대한 예외적 인 제어를 허용하는 다재다능한 포토 esist 유닛입니다. 고해상도 레이저는 고해상도 레이저 (고해상도 레이저) 와 고해상도 (고해상도) 를 통해 정확성과 반복성을 제공합니다. 이 기계에는 정확한 노출 제어를 위한 고성능 저전압 노출 모니터와 PEC (Post-Exposure Bake) 프로세스를 적용하기위한 프로그래밍 가능한 컨트롤러가 있습니다. 광범위한 포토 esist 재료 및 기판을 처리 할 수 있습니다. 노출 과정에서 온도와 압력을 조절하기 위해 사용 가능한 공정 가스 믹스 (process gas mix) 를 조정하여 공구가 광범위한 저항 유형 (resist type), 기판 (substrate) 및 피쳐 크기를 처리 할 수 있습니다. 이 자산에는 노출 과정에서 민감성 저항재 (Sensitive Resist Material) 의 효율적인 열 관리를 보장하는 통합 냉각 장치 (Integrated Cooling Unit) 도 있습니다. DAINIPPON SD W80A AVP (DAINIPPON SD W80A AVP) 는 용량에 대한 높은 수준의 제어를 통해 정확한 노출 제어를 가능하게 합니다. 이렇게 하면 조그만 포토레지스트 선 (photoresist line) 과 매우 훌륭한 해상도로 다른 모양을 만들 수 있습니다. 노출 모니터를 통해 정밀한 용량 조절 (낮은 용량에서도) 이 가능하며 PEC 프로세스의 통합으로 효율적이고 고수율 (High-Yield) 패턴화 성능이 향상됩니다. 이 모델의 작동은 쉽고 직관적이어서 프로토 타입 (prototyping) 작업과 프로덕션 실행에 이상적입니다. 내장형 LCD 디스플레이를 사용하면 레이저 및 가스 믹스 매개변수, 기판 크기 및 방향, 노출 전 (pre-exposure) 및 사후 (post-exposure) 프로세스의 노출 시간 등 노출 프로세스 설정을 시각적으로 피드백할 수 있습니다. DNS/DAINIPPON SD W80A AVP는 강력하고 비용 효율적인 포토레지스트 (photoresist) 장비로, 가장 까다로운 생산 요구 사항을 충족하고 탁월한 패턴화 성능을 제공합니다. 다용도 기능, 정확한 제어 기능, 안정적인 작동을 통해 모든 photoresist 패턴화 (patterning) 어플리케이션에 적합한 옵션을 선택할 수 있습니다.