판매용 중고 DNS / DAINIPPON SD-W60A-AVN #9148335

DNS/DAINIPPON SD-W60A-AVN은 폴리머 필름 처리 및 마이크로 구조 생성을 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 포토 리토 그래피 프로세스 (photolithography process) 가 패턴을 포토리스 스트 재료 (photoresist material) 로 전달하도록 설계되었으며, 이어서 기판 표면에 미세 구조를 생성하는 데 사용됩니다. 이 장치에는 디스펜션 및 폴리머 개발을위한 통합 스핀 코터 모듈 (spin-coater module) 이 포함되어 있으며, 두께가 50 nm ~ 1000 µm 인 필름을 생산할 수 있습니다. 스핀 코터는 DNS SD-W60A-AVN의 고속 정밀 동작 메커니즘과 결합하여 패턴을 기판으로 정확하게 전송합니다. 이 기계는 반자동 메커니즘을 사용하여 노출 및 개발 프로세스를 정확하게 제어합니다. 사용자가 노출 (Exposure) 매개변수를 선택하여 패턴 형성의 속도, 해상도, 명확도를 최적화할 수 있습니다. 이 공구에는 4 축 동작 제어 장치가 장착되어 있으며, 미세한 구조에도 최소 임계 치수 (1 µm) 를 보장합니다. DAINIPPON SD-W60A-AVN은 건식 필름 장치로 설계되었으며, 이는 포토 esist 코팅 프로세스에 사용됩니다. 이 장치는 습기 전, 건조 및 베이킹 모듈로 구성되어 있으므로 일관되고 안정적인 코팅 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 이 자산에는 프로세스를 모니터링하고 고품질 결과를 보장하기 위한 통합 검사 (Integrated Inspection) 모델도 장착되어 있습니다. 장비는 또한 기판을 적용 및 제거할 수있는 자동 로더 및 언로더를 제공합니다. 기판 처리 시간 (시간) 을 줄여 처리량을 늘리는 데 사용할 수 있습니다. 안전 측면에서, 이 시스템에는 정전기 손상을 방지하고 안정적인 프로세스를 보장하기위한 정적 (Anti-Static) 디자인이 포함되어 있습니다. SD-W60A-AVN은 포토 마스크 패턴화 및 폴리머 필름 생산에 효과적이고 신뢰할 수있는 단위입니다. 높은 정밀도와 높은 처리량으로, 이 기계는 다양한 미세 구조를 생산하기 위해 반도체 (semiconductor) 와 포토 마스크 (photomask) 산업에 널리 채택되었습니다.