판매용 중고 DNS / DAINIPPON SCW-629 #9269454

DNS/DAINIPPON SCW-629 Photoresist 장비는 전자제품 및 반도체 부품의 생산에 이상적인 매우 정확하고 정확한 패턴화 기능으로 알려진 최첨단 사진 분석 시스템입니다. 이 제품은 제작자가 견고한 설계 사양에 맞게 패턴을 빠르고 정확하게 만들 수 있도록 설계된 단일 단계, 고해상도 (High-Resolution) 패턴입니다. 이 기계는 광원 (Light Source), 광사 재료 (Photoresist Material) 및 선호하는 이미징 장치의 세 가지 주요 부분으로 구성됩니다. DNS SCW-629는 150mW/cm2 강도의 고강도 수은 증기 램프를 광원으로 사용합니다. 이 광원은 고속 이미징에 정확하고 정확한 결과를 제공하는 연속 파동 (continuous wave) 을 제공합니다. photoresist 재료는 광원과 함께 작동하여 정확하고 정확한 패턴을 만듭니다. 빛에 반응하는 방식에 따라 포토레시스트 (photoresist) 재료의 각 유형이 다르므로, 제작자는 이상적인 용액을 찾기 위해 여러 포토레시스트 (photoresist) 물질을 실험해야 할 수 있습니다. photoresist 물질에 패턴을 효율적으로 각인하기 위해 DAINIPPON SCW-629 (DAINIPPON SCW-629) 는 디지털 마스크 정렬기를 사용하여 photoresist 재료 위에 photomask를 정확하고 정확하게 배치합니다. 이를 통해 제작자는 최소한의 노력으로 패턴과 결과를 빠르게 생산할 수 있습니다. 원하는 패턴이 포토리스 스트 물질에 에칭 된 후, SCW-629 (SCW-629) 를 사용하여 패턴을 빠르게 건조하고 치료할 수 있습니다. 이 작업은 초고속 적외선 히터 세트를 사용하여 포토 마스크 (photomask) 와 패턴 (pattern) 을 단단히 연결하고 처리 중에 이동하지 않도록 합니다. 전반적으로 DNS/DAINIPPON SCW-629 Photoresist 도구는 매우 상세하고, 정확하며, 정확한 패턴 지정 기능이 필요한 제작자를 위한 효율적이고 강력한 도구입니다. 고품질 수은 증기 램프 (mercury vapor lamp) 와 디지털 마스크 정렬 장치 (digital mask aligner) 를 통해 제작자가 원하는 패턴을 빠르고 정확하게 생성 할 수 있습니다. 이것은 초고속 건조 및 치료 기능으로 더욱 향상되어, 제작자는 다양한 포토레지스트 (photoresist) 재료에서 원하는 패턴을 빠르게 생성 할 수 있습니다.