판매용 중고 DNS / DAINIPPON SCW-622-BV #9226214

DNS/DAINIPPON SCW-622-BV 포토 esist 장비는 photolithography 응용 프로그램을위한 기술적으로 고급 솔루션입니다. 높은 신뢰성, 높은 내구성 및 성능 신뢰성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 표면에 복잡한 패턴을 빠르고 정확하게 에칭 (etching) 하도록 설계되어 전자, 자동차, 항공 우주, 의료 분야 등 다양한 산업에서 사용할 수 있습니다. DNS SCW-622-BV는 마스터, 포토 마스크 및 코팅 스테이션의 세 가지 구성 요소로 구성됩니다. 마스터는 장치의 컨트롤러로, 에칭 프로세스 제어, 수신된 입력 (input) 데이터 생성, 프로세스 데이터 저장 등을 담당합니다. [마스크] 는 기판에 인쇄할 패턴의 홀더입니다. 코팅 스테이션은 photoresist 물질을 기판에 적용 할 책임이 있습니다. 기계 의 기본적 인 작용 은 "마스크 '로부터 광선 에 기판 을 노출 시키는 것 과 관련 이 있는데, 이것 은" 포토리토그래피' (photolithography) 라는 과정 이다. "마스크 '를 윤곽선 으로 하여 그 아래 에 빛 을 통과 시키고, 기판 에" 포토레지스트' 물질 을 적용 시킨다. 광전물질 (photoresist) 은 사진에 민감하므로, 빛이 마스크를 통과하면 기질의 노출 된 영역에만 영향을 미칩니다. 그런 다음 이들 영역을 기판에 에칭하여 원하는 패턴을 생성합니다. 이 도구에는 여러 가지 고급 피쳐 (advanced features) 가 포함되어 있으므로 다양한 유형의 프로세스에 사용할 수 있습니다. 예를 들어, 패턴 크기와 복잡도에 따라 에칭 각도를 자동으로 조정하는 내장 (Bist-in) 알고리즘이 있습니다. 이렇게 하면 기판의 재료 또는 형상에 관계없이 패턴 (pattern) 이 정확하게 에칭됩니다. 또한, 보다 복잡한 패턴을 만들기 위해 에셋을 여러 에칭 사이클 (etching cycle) 로 프로그래밍 할 수 있습니다. DAINIPPON SCW-622-BV (DAINIPPON SCW-622-BV) 는 신뢰성이 높고 정확한 에칭 기능을 제공하여 다양한 업계에서 고품질 결과를 창출하는 데 이상적인 도구입니다. 또한 사용자 친화적 인 인터페이스 (User-Friendly Interface) 를 통해 편리하게 작동하여 사용자가 신속하게 에칭 프로세스를 설정하고 관리할 수 있습니다. 이는 생산과정을 간소화해 효율성과 정확성을 높이려는 사람들에게 좋은 선택이다. & # 160; & # 160; & # 160;