판매용 중고 DNS / DAINIPPON SCW-622-B #9111281

DNS/DAINIPPON SCW-622-B는 전자 반도체 처리에서 마스크 정렬 리소그래피 응용 프로그램을위한 포토 esist 시스템입니다. 이 장비에는 컴퓨터 제어 웨이퍼 스테이지, 디지털 이미징 시스템, 마스크 사전 정렬 및 미세 튜닝을위한 정렬 스테이지 (Alignment Stage) 가 포함됩니다. 스테이지는 직경 200mm, 높이 30mm 의 웨이퍼를 처리하기 위해 2 축 기울기 및 회전 기능으로 설계되었습니다. 또한 "웨이퍼 '위 에" 마스크' 를 정확 하게 배치 할 수 있는 정밀 선형 단계 도 포함 된다. 디지털 이미징 장치에는 자동 정렬 장치 (auto-aligner) 와 마스크 (mask) 와 웨이퍼 (wafer) 사이의 정렬을 시각적으로 검사하는 비디오 카메라가 포함되어 있습니다. 이 기계에는 정확한 이미지 기반 정렬을 가능하게 하는 소프트웨어 제어 오버레이 도구도 포함되어 있습니다. 자산에는 고해상도 전동 프로젝션 광학 헤드 (optical head) 와 수동 프로젝션 광학 모델이 장착되어 있습니다. 투영 광학 (projection optics) 을 사용하면 마스크 이미지를 와퍼에 직접 투영하여 접촉 마스크 패턴의 크기와 모양을 유지할 수 있습니다. 정렬 장치에는 사전 정렬을위한 미크론 해상도 광학 레이저 (micron resolution optical laser) 와 마스크 등록의 미세 튜닝을위한 서브 미크론 레이저 센서 (sub-micron laser sensor) 가 장착 된 레이저 포지셔너가 있습니다. 장비는 마스크 캐비티 및 웨이퍼의 셔터 개폐/닫기 (shutter opening/closing) 를 통해 로봇 로딩을 위해 구성됩니다. 이 시스템은 저온에서 작동 할 수 있으며, 프로젝트 광학의 하류에있는 웨이퍼 (wafer) 를 처리하기 위해 내장 진공 장치를 포함합니다. DNS SCW-622-B 포토 esist 기계는 파인 라인 패턴화 및 드라이버 회로를 포함한 반도체 IC 제조 분야에 이상적입니다. 이 도구는 LCD 평면 패널 디스플레이 제작에도 적용됩니다. 또한, 자산은 광범위한 저항 및 노출 온도를 처리 할 수 있습니다. 이를 통해 두껍고 얇은 필름 패턴화, 범프 스텐실링 (Bump-stenciling) 및 기타 복잡한 레이아웃 패턴과 같은 응용 프로그램으로 극도의 정밀도와 정확도가 필요합니다.