판매용 중고 DNS / DAINIPPON / SCREEN RF3 #293609035
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ID: 293609035
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2007
Coater, 12"
SC Cabinet
Waste fluid cabinet
Power supply box
ACU
ETU
Fan
2007 vintage.
DNS/DAINIPPON/SCREEN RF3은 마이크로 전자 장치 제조를 위해 설계된 포토 esist 장비입니다. 이 시스템은 자동화된 DNS 인쇄 머신과 광원이 있는 노출 장치 (Exposure Unit) 로 구성됩니다. 이 조합은 마이크로 일렉트로닉스의 생산 과정에서 높은 정밀도, 높은 노출 제어 및 높은 노출 효율성을 허용합니다. DNS RF3 기계에는 발사 총과 고해상도 광 도구가 장착되어 있습니다. 노출 자산의 LCD SCREEN 인쇄 기계는 감광 물질을 기판에 정확하게 노출하도록 설계되었습니다. LCD DAINIPPON 인쇄 기계는 X-Y 전송 모델을 사용하여 기판의 노출 재료를 정확하게 정렬하고 등록합니다. 노출을위한 SCREEN RF3 광원은 최대 8,000 mW/cm2의 광도에 도달 할 수 있습니다. 이 광원은 선택된 감광 물질 (photosensitive materials) 의 최적의 노출과 기질의 노출에 맞게 조정 될 수있다. 광원 은 또한 자외선 범위 에 노출 될 수 있으며, 그 로 인한 기질 의 연소 를 최소화 하는 데 도움 이 된다. "뉴우요오크 타임즈" 지는 이렇게 보도 한다. 노출 장비는 또한 배치 모드 (batch-mode) 작동을 위해 구성되며, 동시에 여러 기판을 생산할 수 있습니다. 이는 생산 시간과 재료 비용을 크게 줄일 수 있습니다. 이 시스템의 자동화 기능으로 인해 노출 과정에서 인적 오류 (human error) 가 감소하여 수율이 높아집니다. 또한 DAINIPPON RF3 장치는 노출 프로세스를 최적화하기 위해 여러 가지 다른 기능을 제공합니다. 온DNS/DAINIPPON/SCREEN 설정 및 제어 기능뿐만 아니라, 통합된 노출 로깅 및 녹화 기능을 제공하여 사용자에게 노출 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있습니다. 또한 노출 오류를 수정하고, 노출 시간을 최소화하고, 제품 수율을 최적화할 수 있는 소프트웨어를 제공합니다. 결론적으로, RF3는 마이크로 일렉트로닉 장치 제작을 위해 설계된 효율적이고 정확한 포토 esist 기계입니다. 이 도구는 높은 노출 제어 (Exposure Control), 높은 노출 효율성 (Exposure Efficiency), 일괄 처리 모드 (Batch-Mode Operation) 및 기타 여러 기능을 제공하여 노출 프로세스를 최적화합니다. 자산의 통합된 기능과 제어 기능 (Control Function) 을 통해 사용자는 노출 프로세스에 대한 완벽한 제어 및 정확성 (Full Control and Accuracy) 을 가질 수 있으므로 수율이 높아집니다.
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