판매용 중고 DNS / DAINIPPON SC-W80A-AG #9274812

DNS/DAINIPPON SC-W80A-AG는 고해상도와 고정밀 처리를 모두 제공하는 최첨단 포토 esist 노출 장비입니다. 포토리스 (Photoresist) 노출은 반도체 장치 제조의 핵심 단계이며, 제품의 품질을 보장하기 위해 높은 정밀도와 정확도가 필요했습니다. DNS SCW-80A-AG 시스템은 이러한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 장치에는 최대 1.2 kW 에너지의 2 개의 노출 빔을 수용 할 수있는 고급 듀얼 빔 노출 헤드 (dual-beam exposure head) 가 장착되어 있습니다. 이것 은 광저항 "필름 '에서 일관성 있고 정확 한 패턴 형성 을 보장 할 수 있는 매우 높은 해상도 를 제공 한다. 노출 헤드를 기울여 최적의 노출 각도를 얻을 수 있으며 그 위치를 X 축 (X-axes) 과 Y 축 (Y-axes) 으로 조정하여 노출이 원하는 영역에 정확하게 있는지 확인할 수 있습니다. 또한 노출 매개변수를 세밀하게 조정하여 정밀도를 높일 수 있도록 기계를 자유롭게 프로그래밍 할 수 있습니다. 또한, DAINIPPON SC W80A AG 도구는 프로그래밍 가능한 제어 자산으로 제어 할 수있는 스캐너 및 노출 테이블을 포함합니다. 이를 통해 다양한 노출 패턴 (Exposure Pattern) 을 쉽고 빠르게 실행할 수 있습니다. "테이블 '을 이동 하고 회전 하여" 디바이스' 나 기판 을 정확 하게 배치 하여 최적 의 노출 을 하게 할 수 있다. DNS/DAINIPPON SCW-80A-AG 모델은 최소 0.2 미크론의 라인 너비를 생성 할 수 있습니다. 또한, 이 장비에는 예기치 않은 노출을 방지하는 기계적, 전기적 안전 기능이 내장되어 있습니다. 또한, 웨이퍼 클리닝 및 사전 처리 시스템을 자동 처리를 위해 장치에 통합 할 수 있습니다. 전반적으로 DNS SC-W80A-AG는 첨단 최첨단 포토 esist 노출 기계입니다. 이중 노출 빔 (Dual Exposure Beam) 과 기판을 정확하게 배치 할 수있는 스캐너 및 테이블이 장착되어 있습니다. 또한 최소 0.2 미크론 너비의 고해상도, 고정밀 처리를 제공합니다. 이 도구는 또한 다양한 안전 및 자동화 (Safety and Automation) 기능을 제공하여 기판 (Substrate) 만을 요구하는 사람들에게 이상적인 선택입니다.